Academic Journal
Влияние ионно-ассистируемого осаждения на содержание водорода в структурах Me/Si
| Title: | Влияние ионно-ассистируемого осаждения на содержание водорода в структурах Me/Si |
|---|---|
| Publisher Information: | БГТУ, 2020. |
| Publication Year: | 2020 |
| Subject Terms: | структуры Ме/Si, метод РОР, ионно-ассистируемое осаждение, метод резерфордовского обратного рассеяния, водород, концентрации водорода, приповерхностные слои |
| Description: | В работе обсуждаются экспериментальные результаты по изучению приповерхностных слоев структур Ме/Si, сформированных методом ионно-ассистируемого осаждения в вакууме. В качестве подложки использовался образцы из кремния, на которые наносились металлсодержащие покрытие на основе Cr, Ti, Zr. |
| Document Type: | Article |
| File Description: | application/pdf |
| Language: | Russian |
| Access URL: | https://openrepository.ru/article?id=458258 |
| Accession Number: | edsair.httpsopenrep..e3557070536340df736eae75f4042322 |
| Database: | OpenAIRE |
Be the first to leave a comment!