Academic Journal

Unified Machine Learning Framework for Process–Device–Circuit Variability Quantification of Inner Spacer Etch in GAA FETs

Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Τίτλος: Unified Machine Learning Framework for Process–Device–Circuit Variability Quantification of Inner Spacer Etch in GAA FETs
Συγγραφείς: Maheshwari, O., Mohapatra, N.R.
Πηγή: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing IEEE Trans. Semicond. Manufact. Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on. 39(3):410-416 Aug, 2026
Βάση Δεδομένων: IEEE Xplore Digital Library
Περιγραφή
ISSN:08946507
15582345
DOI:10.1109/TSM.2026.3701836