Academic Journal
Аморфный оксид ванадия - резист для нанолитографии
| Title: | Аморфный оксид ванадия - резист для нанолитографии |
|---|---|
| Source: | Вестник Воронежского государственного технического университета. |
| Publisher Information: | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования «Воронежский государственный технический университет», 2009. |
| Publication Year: | 2009 |
| Subject Terms: | РЕЗИСТ, ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВАЯ ЛИТОГРАФИЯ |
| Description: | Показана возможность использования тонких пленок аморфного оксида ванадия в качестве резиста для электронно-лучевой нанолитографии. Разработаны научно-технические основы процессов нанесения резиста, экспонирования и проявления, в том числе при помощи плазмохимического травления. Установлены основные параметры оксидно-ванадиевого резиста, в частности, высокая чувствительность (~ 10 -100 мкКл/см2) и высокое разрешение ( It is shown that thin films of amorphous vanadium oxide can be used as a resist for electron-beam nanolithography. Scientific and technical basis for the processes of deposition, exposing and developing (including plasma-chemical etching) are worked out. The main parameters of the vanadium-oxide resist are established; particularly they are: high sensitivity (~ 10-100 µC/cm2) and high resolution ( |
| Document Type: | Article |
| File Description: | text/html |
| Language: | Russian |
| ISSN: | 1729-6501 |
| Access URL: | http://cyberleninka.ru/article/n/amorfnyy-oksid-vanadiya-rezist-dlya-nanolitografii http://cyberleninka.ru/article_covers/13985555.png |
| Accession Number: | edsair.od......2806..1f19f7dc1b78b76b10d8ad0adbad0ff9 |
| Database: | OpenAIRE |
| ISSN: | 17296501 |
|---|