Academic Journal
Влияние ионно-ассистируемого осаждения на содержание водорода в структурах Me/Si
| Τίτλος: | Влияние ионно-ассистируемого осаждения на содержание водорода в структурах Me/Si |
|---|---|
| Στοιχεία εκδότη: | БГТУ, 2020. |
| Έτος έκδοσης: | 2020 |
| Θεματικοί όροι: | структуры Ме/Si, метод РОР, ионно-ассистируемое осаждение, метод резерфордовского обратного рассеяния, водород, концентрации водорода, приповерхностные слои |
| Περιγραφή: | В работе обсуждаются экспериментальные результаты по изучению приповерхностных слоев структур Ме/Si, сформированных методом ионно-ассистируемого осаждения в вакууме. В качестве подложки использовался образцы из кремния, на которые наносились металлсодержащие покрытие на основе Cr, Ti, Zr. |
| Τύπος εγγράφου: | Article |
| Περιγραφή αρχείου: | application/pdf |
| Γλώσσα: | Russian |
| Σύνδεσμος πρόσβασης: | https://openrepository.ru/article?id=458258 |
| Αριθμός Καταχώρησης: | edsair.httpsopenrep..e3557070536340df736eae75f4042322 |
| Βάση Δεδομένων: | OpenAIRE |
καταχωρήστε σχόλιο πρώτοι!