Formation of nanocones on the surface of Pb0.4Sn0.6Te films during ion-plasma treatment with argon ions with an energy of 140 eV
| Title: | Formation of nanocones on the surface of Pb0.4Sn0.6Te films during ion-plasma treatment with argon ions with an energy of 140 eV |
|---|---|
| Authors: | Belov, Yaroslav, Zimin, Sergey, Amirov, Ildar, Mazaletskiy, Leonid |
| Publisher Information: | St. Petersburg State Polytechnical University Journal. Physics and Mathematics, 2024. |
| Publication Year: | 2024 |
| Subject Terms: | lead-tin telluride, аргоновая плазма, теллурид свинца-олова, наноструктурирование, argon plasma, nanostructuring |
| Description: | The article studies the modification of the surface of Pb0.4Sn0.6Te epitaxial films during ion-plasma treatment in argon plasma. Lead-tin telluride films with a thickness of 2 μm were grown on BaF2 (111) substrates by molecular beam epitaxy. Ion-plasma treatment was carried out in a dense argon plasma of a high-frequency inductive discharge at an ion energy of ~140 eV. The duration of the process is 60 and 120 s. The parameters of an ensemble of nanocones are studied, the evolution of the height of the cones, their lateral dimensions and surface density is described while maintaining the processing time. В статье исследована модификация поверхности эпитаксиальных пленок Pb0.4Sn0.6Te при ионно-плазменной обработке в аргоновой плазме. Пленки теллурида свинца-олова толщиной 2 мкм были выращены на подложках BaF2 (111) методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Ионно-плазменная обработка проводилась в плотной аргоновой плазме ВЧ индукционного разряде при энергии ионов ~140 эВ. Продолжительность процесса составляла 60 и 120 с. Изучены параметры ансамбля наноконусов, описана эволюция высоты конусов, их поперечных размеров и поверхностной плотности при изменении времени обработки. |
| Document Type: | Other literature type |
| Language: | English |
| DOI: | 10.18721/jpm.173.108 |
| Accession Number: | edsair.doi...........a5212cabe6d51f47d25a71e577cb45ab |
| Database: | OpenAIRE |
Be the first to leave a comment!