Academic Journal
Состав Ti/Si- и Co/Si-структур, сформированных ионно-ассистируемым осаждением
| Τίτλος: | Состав Ti/Si- и Co/Si-структур, сформированных ионно-ассистируемым осаждением |
|---|---|
| Στοιχεία εκδότη: | БГТУ, 2022. |
| Έτος έκδοσης: | 2022 |
| Θεματικοί όροι: | ионно-ассистируемое осаждение, метод резонансных ядерных реакций, титан, водород, кобальт, резерфордовское обратное рассеяние, кремний |
| Περιγραφή: | В работе обсуждаются экспериментальные результаты по изучению распределения элементов в приповерхностных слоях Ti/Si- и Со/Si-структур, сформированных методом ионно-ассистируемого осаждения в вакууме. Этот метод заключается в осаждении покрытия на подложку, в процессе которого поверхность формируемой структуры облучается пучком ускоренных ионов. Время осаждения покрытий составляло 2 ч при ускоряющем напряжении U = 7 кВ и плотности ионного тока ∼4−5 мкА/см2. В рабочей камере в процессе осаждения покрытий поддерживался вакуум при давлении ~10−2 Па. Средняя скорость нанесения покрытия находилась в пределах 0,2−0,4 нм/мин. Отношение Ji / Jа плотности потока Ji ассистирующих ионов к плотности потока Jа нейтральных атомов составляло 0,1−0,4, что соответствует условию роста покрытия на подложке. Состав и распределение элементов по глубине в сформированных покрытиях изучались методом резерфордовского обратного рассеяния ионов гелия в сочетании с компьютерным моделированием RUMP и методом резонансных ядерных реакций. Установлено, что при ионно-ассистируемом осаждении на подложки из кремния покрытий на основе хрома или титана формируются поверхностные структуры толщиной ∼100‒150 нм. В состав покрытия входят: атомы осаждаемого металла, атомы из подложки (Si), атомы технологических примесей кислорода, углерода и водорода. Сформированные покрытия содержат ∼15‒20 ат. % водорода в зависимости от параметров осаждения покрытий. Источником атомов технологических примесей в покрытии является летучая фракция углеводородов вакуумного масла диффузионного паромасляного насоса. Концентрация атомов водорода в сформированных структурах уменьшается в ∼1,5‒2 раза при повторных сканированиях образцов пучком анализирующих ионов N+ в экспериментах с применением резонансной ядерной реакции, что связано с дегазацией атомов водорода и его соединений, которые химически слабо связаны с атомами покрытия |
| Τύπος εγγράφου: | Article |
| Περιγραφή αρχείου: | application/pdf |
| Γλώσσα: | Russian |
| DOI: | 10.52065/2520-6141-2022-260-2-60–64 |
| Σύνδεσμος πρόσβασης: | https://elib.belstu.by/handle/123456789/50805 |
| Αριθμός Καταχώρησης: | edsair.od......3992..b1d4e26e7e26ca6af249c00e821c61a2 |
| Βάση Δεδομένων: | OpenAIRE |
| FullText | Text: Availability: 0 |
|---|---|
| Header | DbId: edsair DbLabel: OpenAIRE An: edsair.od......3992..b1d4e26e7e26ca6af249c00e821c61a2 RelevancyScore: 877 AccessLevel: 3 PubType: Academic Journal PubTypeId: academicJournal PreciseRelevancyScore: 876.866149902344 |
| IllustrationInfo | |
| Items | – Name: Title Label: Title Group: Ti Data: Состав Ti/Si- и Co/Si-структур, сформированных ионно-ассистируемым осаждением – Name: Publisher Label: Publisher Information Group: PubInfo Data: БГТУ, 2022. – Name: DatePubCY Label: Publication Year Group: Date Data: 2022 – Name: Subject Label: Subject Terms Group: Su Data: <searchLink fieldCode="DE" term="%22ионно-ассистируемое+осаждение%22">ионно-ассистируемое осаждение</searchLink><br /><searchLink fieldCode="DE" term="%22метод+резонансных+ядерных+реакций%22">метод резонансных ядерных реакций</searchLink><br /><searchLink fieldCode="DE" term="%22титан%22">титан</searchLink><br /><searchLink fieldCode="DE" term="%22водород%22">водород</searchLink><br /><searchLink fieldCode="DE" term="%22кобальт%22">кобальт</searchLink><br /><searchLink fieldCode="DE" term="%22резерфордовское+обратное+рассеяние%22">резерфордовское обратное рассеяние</searchLink><br /><searchLink fieldCode="DE" term="%22кремний%22">кремний</searchLink> – Name: Abstract Label: Description Group: Ab Data: В работе обсуждаются экспериментальные результаты по изучению распределения элементов в приповерхностных слоях Ti/Si- и Со/Si-структур, сформированных методом ионно-ассистируемого осаждения в вакууме. Этот метод заключается в осаждении покрытия на подложку, в процессе которого поверхность формируемой структуры облучается пучком ускоренных ионов. Время осаждения покрытий составляло 2 ч при ускоряющем напряжении U = 7 кВ и плотности ионного тока ∼4−5 мкА/см2. В рабочей камере в процессе осаждения покрытий поддерживался вакуум при давлении ~10−2 Па. Средняя скорость нанесения покрытия находилась в пределах 0,2−0,4 нм/мин. Отношение Ji / Jа плотности потока Ji ассистирующих ионов к плотности потока Jа нейтральных атомов составляло 0,1−0,4, что соответствует условию роста покрытия на подложке. Состав и распределение элементов по глубине в сформированных покрытиях изучались методом резерфордовского обратного рассеяния ионов гелия в сочетании с компьютерным моделированием RUMP и методом резонансных ядерных реакций. Установлено, что при ионно-ассистируемом осаждении на подложки из кремния покрытий на основе хрома или титана формируются поверхностные структуры толщиной ∼100‒150 нм. В состав покрытия входят: атомы осаждаемого металла, атомы из подложки (Si), атомы технологических примесей кислорода, углерода и водорода. Сформированные покрытия содержат ∼15‒20 ат. % водорода в зависимости от параметров осаждения покрытий. Источником атомов технологических примесей в покрытии является летучая фракция углеводородов вакуумного масла диффузионного паромасляного насоса. Концентрация атомов водорода в сформированных структурах уменьшается в ∼1,5‒2 раза при повторных сканированиях образцов пучком анализирующих ионов N+ в экспериментах с применением резонансной ядерной реакции, что связано с дегазацией атомов водорода и его соединений, которые химически слабо связаны с атомами покрытия – Name: TypeDocument Label: Document Type Group: TypDoc Data: Article – Name: Format Label: File Description Group: SrcInfo Data: application/pdf – Name: Language Label: Language Group: Lang Data: Russian – Name: DOI Label: DOI Group: ID Data: 10.52065/2520-6141-2022-260-2-60–64 – Name: URL Label: Access URL Group: URL Data: <link linkTarget="URL" linkTerm="https://elib.belstu.by/handle/123456789/50805" linkWindow="_blank">https://elib.belstu.by/handle/123456789/50805</link> – Name: AN Label: Accession Number Group: ID Data: edsair.od......3992..b1d4e26e7e26ca6af249c00e821c61a2 |
| PLink | https://search.ebscohost.com/login.aspx?direct=true&site=eds-live&db=edsair&AN=edsair.od......3992..b1d4e26e7e26ca6af249c00e821c61a2 |
| RecordInfo | BibRecord: BibEntity: Identifiers: – Type: doi Value: 10.52065/2520-6141-2022-260-2-60–64 Languages: – Text: Russian Subjects: – SubjectFull: ионно-ассистируемое осаждение Type: general – SubjectFull: метод резонансных ядерных реакций Type: general – SubjectFull: титан Type: general – SubjectFull: водород Type: general – SubjectFull: кобальт Type: general – SubjectFull: резерфордовское обратное рассеяние Type: general – SubjectFull: кремний Type: general Titles: – TitleFull: Состав Ti/Si- и Co/Si-структур, сформированных ионно-ассистируемым осаждением Type: main BibRelationships: IsPartOfRelationships: – BibEntity: Dates: – D: 07 M: 10 Type: published Y: 2022 Identifiers: – Type: issn-locals Value: edsair |
| ResultId | 1 |