Academic Journal
Состав приповерхностных слоев структур Ti/Si и Cо/Si, полученных ионно-ассистируемым осаждением в вакууме
| Τίτλος: | Состав приповерхностных слоев структур Ti/Si и Cо/Si, полученных ионно-ассистируемым осаждением в вакууме |
|---|---|
| Στοιχεία εκδότη: | БГТУ, 2022. |
| Έτος έκδοσης: | 2022 |
| Θεματικοί όροι: | метод ядерных реакций, ионы гелия, ксеноновый маркер, осаждение покрытий, ионно-ассистируемое осаждение, резерфордовское обратное рассеяние |
| Περιγραφή: | В работе рассмотрен состав приповерхностных слоев структур Ti/Si и Cо/Si, полученных ионно-ассистируемым осаждением в вакууме. |
| Τύπος εγγράφου: | Article |
| Περιγραφή αρχείου: | application/pdf |
| Γλώσσα: | Russian |
| Σύνδεσμος πρόσβασης: | https://elib.belstu.by/handle/123456789/47988 |
| Αριθμός Καταχώρησης: | edsair.od......3992..1c5a1d3a9a81258f13cb868e0455de91 |
| Βάση Δεδομένων: | OpenAIRE |
καταχωρήστε σχόλιο πρώτοι!