Bibliographic Details
| Title: |
Распределение элементов по глубине в структурах Me/Ti, полученных ионно-ассистируемым осаждением |
| Publisher Information: |
БГАТУ, 2021. |
| Publication Year: |
2021 |
| Subject Terms: |
нанесение покрытий, ионы гелия, осаждение покрытий, тонкопленочные структуры, ионно-ассистируемое осаждение, титан, компьютерное моделирование, резерфордовское обратное рассеяние |
| Description: |
Метод ионно-ассистируемого осаждения покрытий в вакууме являются перспективным методом модифицирования состава и свойств поверхности материалов и изделий. Он позволяет при осаждении пленки облучать поверхность формируемой структуры ускоренными ионами. При таком нанесении покрытий происходит перемешивание атомов поверхностного слоя мишени с атомами осаждаемого покрытия, в результате чего формируется покрытие с высокой степенью адгезии к подложке. В процессе осаждения покрытия в поверхностных слоях подложки происходит изменение композиционного состава и структурно-фазового состояния, что приводит к изменению свойств поверхности. |
| Document Type: |
Article |
| File Description: |
application/pdf |
| Language: |
Russian |
| Access URL: |
https://elib.belstu.by/handle/123456789/40169 |
| Accession Number: |
edsair.od......3992..10ce7713578c9528c38c7ec6c65163fe |
| Database: |
OpenAIRE |