| Description: |
Исследован процесс поляризационной голографической записи дифракционных решеток и ихпоследующего стирания в многослойной наноструктуре As2S3-Se. Изучено влияние предвари-тельной засветки актиничным лазерным излучением до полного насыщения фотостимулиро-ванных изменений оптических свойств на формирование дифракционных решеток в исследуе-мой структуре. Показано, что засветка многослойной наноструктуры (МНС) As2S3-Se актинич-ным светом приводит к фотопросветлению, а величина максимально достижимой дифракцион-ной эффективности (ДЭ), равной 35%, при записи решеток не изменяется, но необходимаяэкспозиция до достижения максимума увеличивается. Также показано, что экспозиция однимлучом приводит к полному стиранию записанной до максимума дифракционной решетки.Проведенные семь циклов записи-стирания показали, что кинетика роста ДЭ и ее максималь-ная величина не изменяются, что указывает на то, что на МНС As2S3-Se осуществима ревер-сивная голографическая запись при ортогональной циркулярной поляризации. Исследованиеполученных решеток на атомном силовом микроскопе (АСМ) свидетельствует, что основнымфактором, определяющим значение ДЭ записанных решеток, является модуляция рельефа,глубина которого составляет более 200 нм. Polarization holographic recording of diffraction gratings and their subsequent erasing was investigated on As2S3-Se multilayer nanostructures. The influence of pre-exposure up to complete photo-induced changes of optical properties on diffraction gratings recording was studied. It was shown that pre-exposure of As2S3-Se multilayer nanostructure led to photo-bleaching and the maximum achievable diffractive efficiency equivalent to 35% did not change, but the required value of exposure was increased. Thus, we have shown that we are responsible for the use of a stylus to the maximum diffraction gratings. In addition it was shown that exposure by one laser beam led to complete erasure of recorded up to maximum diffraction grating. The performed 7 cycles of recording-erasing showed that the kinetics of the diffraction efficiency growth and its maximal value did not change that indicated that As2S3-Se multilayer structure is capable for reversible holographic recording in orthogonal circular polarizations. AFM measurements of recorded gratings showed that the main factor determining the diffraction efficiency value was surface relief modulation up to 200 nm. |