Room temperature operation of (Al,Ga,In)As/NiAl/(Al,Ga,In)As buried metal well hidden-field effect transistors.

Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Τίτλος: Room temperature operation of (Al,Ga,In)As/NiAl/(Al,Ga,In)As buried metal well hidden-field effect transistors.
Συγγραφείς: Tabatabaie, N., Sands, T., Harbison, J.P., Gilchrist, H.L., Cheeks, T.L., Florez, L.T., Keramidas, V.G.
Πηγή: International Technical Digest on Electron Devices Meeting; 1989, p555-558, 4p
Βάση Δεδομένων: Complementary Index