Effect of electron-beam treatment of sensor glass substrates for SPR devices on their metrological characteristics

Συγγραφείς: Vashchenko, Vyacheslav, Yatsenko, Irina, Kovalenko, Yuriy, Kladko, V.P., Gudymenko, O.Yo., Lytvyn, P.M., Korchovyi, A.A., Mamykin, S.V., Kondratenko, O.S., Maslov, V.P., Dorozinska, H.V., Dorozinsky, G.V.

Πηγή: Semiconductor Physics, Quantum Electronics & Optoelectronics, Vol 22, Iss 4, Pp 444-451 (2019)

Θεματικοί όροι: поверхневий плазмонний резонанс, X-ray reflectometry, Physics, QC1-999, рентгенівська рефлектометрія, sensitivity, 01 natural sciences, чутливість, електронно-променева обробка, еліпсометрія, electron-beam processing, 0103 physical sciences, x-ray reflectometry, atomic-force microscopy, атомно-силова мікроскопія, surface plasmon resonance, ellipsometry

Περιγραφή αρχείου: application/pdf

Σύνδεσμος πρόσβασης: https://doaj.org/article/6089f93e047f499c857e1cc17c29efb3
https://er.chdtu.edu.ua/handle/ChSTU/4213