Влияние доли добавки эмиттера электронов и анионов в технологической засыпке на ускорения процессов термодиффузионного хромирования

Authors: Shaburova, N.A.

Subject Terms: saturation with chromium and tungsten, глубина диффузионного слоя, хромовольфрамирование, ускорение насыщения, surface corrosion, защитные и упрочняющие покрытия, thermal emission, УДК 669.268.6, термодиффузия, electrodiffusion, термоэмиссия, protective and hardening coatings, diffusion layer depth, chromium nickel plating

File Description: application/pdf

Access URL: http://dspace.susu.ru/xmlui/handle/00001.74/55970