Showing 1 - 20 results of 455 for search '"рекристаллизация"', query time: 0.81s Refine Results
  1. 1
  2. 2
  3. 3
  4. 4
  5. 5
  6. 6
  7. 7
    Academic Journal

    Contributors: The work was supported by the Russian Science Foundation, grant No. 23-29-10179 (Development of scientific and technological foundations for producing wire from special alloys for addi- tive manufacturing)., Работа выполнена при поддержке Российского научного фонда, грант № 23-29-10179 (Разработка научных и технологических основ получения проволоки из специальных сплавов для аддитивного производства).

    Source: Metallurgy; Том 24, № 4 (2024); 44–54 ; Металлургия; Том 24, № 4 (2024); 44–54 ; 2411-0906 ; 1990-8482

    File Description: application/pdf

  8. 8
  9. 9
  10. 10
  11. 11
  12. 12
  13. 13
  14. 14
  15. 15
    Academic Journal

    Source: Devices and Methods of Measurements; Том 15, № 2 (2024); 142-150 ; Приборы и методы измерений; Том 15, № 2 (2024); 142-150 ; 2414-0473 ; 2220-9506 ; 10.21122/2220-9506-2024-15-2

    File Description: application/pdf

    Relation: https://pimi.bntu.by/jour/article/view/874/690; Шаныгин В.Я. Получение атомарно-чистых поверхностей кремния в низкоэнергетической СВЧ плазме низкого давления / В.Я. Шаныгин, Р.К. Яфаров // Журнал технической физики. – 2009. – Т. 79, вып. 12. – С. 73–78.; Красников Г.Я. Конструктивно-технологические особенности субмикронных МОП-транзисторов: в 2 ч. / Г.Я. Красников – М.: Техносфера, 2002. – Ч. 1. – 416 с.; Пилипенко В.А. Свойства поверхности кремния после лазерной обработки импульсами наносекундной длительности / В.А. Пилипенко [и др.] // Инженернофизический журнал. – 2008. – Т. 81, № 3. – С. 592–595.; Gorushko V. Re-crystallization of Silicon during Rapid Thermal Treatment / V. Gorushko, A. Omelchenko, V. Pilipenko, V. Solodukha // Przeglad Electrotechniczny. – 2018. – Vol. 94, № 5. – Рр. 196–198.; Пилипенко В.А. Твердофазная рекристаллизация механически нарушенного слоя кремния при быстрой термообработке / В.А. Пилипенко [и др.] // Доклады национальной академии наук Беларуси. – 2018. – Т. 62, № 3. – С. 347–352.; Достанко А.П. Инновационные технологии и оборудование субмикронной электроники / А.П. Достанко [и др.]; под общ. ред. акад. А.П. Достанко. – Минск: Беларуская навука, 2020. – 260 c.; Borisenko V.E. Rapid Thermal Processing of Semiconductors / V.E. Borisenko, P.J. Hesketh – New York: Plenum Press, 1997. – 385 р.; Киреев В.Ю. Быстрые термические процессы – новый этап в развитии микроэлектронной технологии / В.Ю. Киреев, А.С. Цимбалов // Микроэлектроника. – 2001. – Т. 30, № 4. – С. 266–278.; Пилипенко В.А. Физические основы быстрой термообработки. Геттерирование, отжиг ионнолегированных слоев, БТО в технологии СБИС / В.А. Пилипенко[и др.] – Минск: БГУ, 2001. – 146 с.; Солодуха В.А. Измерение глубины нарушенного слоя на поверхности кремниевых пластин методом оже-спектроскопии / В.А. Солодуха, А.И. Белоус, Г.Г. Чигирь // Наука и техника. – 2016. – Т. 15, № 4. – С. 329–334.; https://pimi.bntu.by/jour/article/view/874

  16. 16
  17. 17
  18. 18
  19. 19
  20. 20