Εμφανίζονται 1 - 20 Αποτελέσματα από 65 για την αναζήτηση '"перенос заряда"', χρόνος αναζήτησης: 0,72δλ Περιορισμός αποτελεσμάτων
  1. 1
    Academic Journal

    Συνεισφορές: Работа выполнена при поддержке Государственной программы научных исследований «Фотоника и электроника для инноваций» (грант 3.8.1, № ГР20212595).

    Πηγή: Doklady of the National Academy of Sciences of Belarus; Том 69, № 1 (2025); 23-31 ; Доклады Национальной академии наук Беларуси; Том 69, № 1 (2025); 23-31 ; 2524-2431 ; 1561-8323 ; 10.29235/1561-8323-2025-69-1

    Περιγραφή αρχείου: application/pdf

    Relation: https://doklady.belnauka.by/jour/article/view/1232/1233; Гриценко, В. А. Запоминающие свойства мемристоров на основе оксида и нитрида кремния / В. А. Гриценко, А. А. Гисматулин, О. М. Орлов // Российские нанотехнологии. – 2021. – Т. 16, № 6. – С. 751–760. https://doi.org/10.1134/s1992722321060078; a-SiNx:H-based ultra-low power resistive random access memory with tunable Si dangling bond conduction paths / X. Jiang, Z. Ma, J. Xu [et al.] // Scientific Reports. – 2015. – Vol. 5. – Art. 15762. https://doi.org/10.1038/srep15762; Yen, T. J. High performance all nonmetal SiNx resistive random access memory with strong process dependence / T. J. Yen, A. Chin, V. Gritsenko // Scientific Reports. – 2020. – Vol. 10. – Art. 2807. https://doi.org/10.1038/s41598-020-59838-y; Charge transport mechanism in the forming-free memristor based on PECVD silicon oxynitride / A. A. Gismatulin, G. N. Kamaev, V. A. Volodin, V. A. Gritsenko // Electronics. – 2023. – Vol. 12, N 3. – Art. 598. https://doi.org/10.3390/electronics12030598; Understanding the role of defects in Silicon Nitride-based resistive switching memories through oxygen doping / N. Vasileiadis, P. Karakolis, P. Mandylas [et al.] // IEEE Transactions on Nanotechnology. – 2021. – Vol. 20. – P. 356–364. https://doi.org/10.1109/tnano.2021.3072974; Nature of traps responsible for the memory effect in silicon nitride / V. A. Gritsenko, T. V. Perevalov, O. M. Orlov, G. Ya. Krasnikov // Applied Physics Letters. – 2016. – Vol. 109, N 6. – Art. 062904. https://doi.org/10.1063/1.4959830; Memory properties and short-range order in silicon oxynitride-based memristors / Yu. N. Novikov, G. N. Kamaev, I. P. Prosvirin, V. A. Gritsenko // Applied Physics Letters. – 2023. – Vol. 122, N 23. – Art. 232903. https://doi.org/10.1063/5.0151211; Redox-based resistive switching memories – nanoionic mechanisms, prospects, and challenges / R. Waser, R. Dittmann, G. Staikov, K. Szot // Advanced Materials. – 2009. – Vol. 21, N 25–26. – P. 2632–2663. https://doi.org/10.1002/adma.200900375; Механические напряжения в пленках SiNx при химическом осаждении из газовой фазы в плазме высокой плотности / Н. С. Ковальчук, С. А. Демидович, Л. А. Власукова [и др.] // Неорганические материалы. – 2022. – Т. 58, № 9. – С. 938–944. https://doi.org/10.31857/s0002337x2209007x; Effect of rapid thermal annealing on Si-based dielectric films grown by ICP-CVD / I. Parkhomenko, L. Vlasukova, F. Komarov [et al.] // ACS Omega. – 2023. – Vol. 8, N 33. – P. 30768–30775. https://doi.org/10.1021/acsomega.3c04997; Voltage-programmable negative differential resistance in memristor of single-crystalline lithium niobate thin film / J. Wang, X. Pan, W. Luo [et al.] // Applied Physics Letters. – 2022. – Vol. 120, N 3. – Art. 032901. https://doi.org/10.1063/5.0070132; A deep study of resistance switching phenomena in TaOx ReRAM cells: system‐theoretic dynamic route map analysis and experimental verification / A. Ascoli, S. Menzel, V. Rana [et al.] // Advanced Electronic Materials. – 2022. – Vol. 8, N 8. – Art. 2200182. https://doi.org/10.1002/aelm.202200182; Electron trap level of hydrogen incorporated nitrogen vacancies in silicon nitride / K. Sonoda, E. Tsukuda, M. Tanizawa, Y. Yamaguchi // Journal of Applied Physics. – 2015. – Vol. 117, N 10. – Art. 104501. https://doi.org/10.1063/1.4914163; Creation and properties of nitrogen dangling bond defects in silicon nitride thin films / W. L. Warren, C. H. Seager, J. Robertson [et al.] // Journal of the Electrochemical Society. – 1996. – Vol. 143, N 11. – P. 3685–3691. https://doi.org/10.1149/1.1837272; Васильев, В. Ю. Технология получения тонких пленок нитрида кремния для микроэлектроники и микросистемной техники. Ч. 8: Влияние водорода в пленках на их свойства / В. Ю. Васильев // Нано- и микросистемная техника. – 2019. – Т. 21, № 6. – С. 352–367.; https://doklady.belnauka.by/jour/article/view/1232

  2. 2
    Academic Journal

    Περιγραφή αρχείου: application/pdf

    Relation: Вестник Тюменского государственного университета. Серия: Физико-математическое моделирование. Нефть, газ, энергетика. — 2025. — Т. 11, № 2 (42)

  3. 3
  4. 4
  5. 5
  6. 6
  7. 7
    Academic Journal

    Συγγραφείς: Mayboroda, І. М., Babenko, V. P.

    Πηγή: Збірник наукових праць Національної академії Національної гвардії України; Том 2, № 26 (2015); 106-109
    The collection of scientific works of the National Academy of the National Guard of Ukraine; Том 2, № 26 (2015); 106-109

    Περιγραφή αρχείου: application/pdf

    Σύνδεσμος πρόσβασης: http://znp.nangu.edu.ua/article/view/139253

  8. 8
  9. 9
  10. 10
    Report

    Συνεισφορές: Карнаухова, Анна Алексеевна

    Περιγραφή αρχείου: application/pdf

    Relation: Новоселов А. А. Исследование люминесценции кристаллов NaI: TI при возбуждении импульсным электронным пучком : магистерская диссертация / А. А. Новоселов; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Инженерная школа новых производственных технологий (ИШНПТ), Отделение материаловедения (ОМ); науч. рук. А. А. Карнаухова. — Томск, 2019.; http://earchive.tpu.ru/handle/11683/54067

    Διαθεσιμότητα: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/54067

  11. 11
  12. 12
    Academic Journal
  13. 13
  14. 14
  15. 15
  16. 16
    Academic Journal

    Περιγραφή αρχείου: application/pdf

    Relation: Санин Э. В. Производные 2-(3-кумароил)бензопирилия как перспективные флуоресцентные зонды для детектирования протеинов в водных растворах / Э. В. Санин, А. И. Новиков, А. Д. Рошаль // Вестник Нац. техн. ун-та "ХПИ" : сб. науч. тр. Темат. вып. : Химия, химическая технология и экология. – Харьков : НТУ "ХПИ". – 2014. – № 28 (1071). – С. 128-134.; http://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/9290

  17. 17
  18. 18
  19. 19
  20. 20