Showing 1 - 20 results of 43 for search '"первопринципные расчеты"', query time: 0.68s Refine Results
  1. 1
  2. 2
  3. 3
  4. 4
  5. 5
  6. 6
  7. 7
  8. 8
  9. 9
    Academic Journal

    Source: Scientific Herald of Uzhhorod University.Series Physics; Том 46 (2019); 40-47
    Научный вестник Ужгородского университета. Серия Физика; Том 46 (2019); 40-47
    Науковий вісник Ужгородського університету. Серія Фізика; Том 46 (2019); 40-47

    File Description: application/pdf

  10. 10
    Academic Journal

    Contributors: Russian Scientific Foundation (Project No. 14–11–00782), Российский научный фонд (№ 14−11−00782 )

    Source: Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering; Том 18, № 4 (2015); 267-272 ; Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники; Том 18, № 4 (2015); 267-272 ; 2413-6387 ; 1609-3577 ; 10.17073/1609-3577-2015-4

    File Description: application/pdf

    Relation: https://met.misis.ru/jour/article/view/225/190; Abgaryan, K. K. The simulation of the nitridation of the sapphire surface (001) / K. Abgaryan, D. Bazanov, I. Mutigillin // Mater. XXI Internat. Conf. «Interaction of ions with the surface» (ISI−2013). − Yaroslavl, 2013. − V. 2. − P. 99—103.; Абгарян, К. К. Исследование адсорбции атомарного азота на поверхности Al2O3 (0001) / К. К. Абгарян, Д. И. Бажанов, И. В. Мутигуллин // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. − 2013. − № 1. − С. 80—85. DOI:10.7868/ S0207352813010022; Hohenberg, P. Inhomogeneous electron gas / P. Hohenberg, W. Kohn // Phys. Rev. − 1964. − V. 136. − P. B864. DOI:10.1103/PhysRev.136.B864; Kohn, W. Self−consistent equations including exchange and correlation effects / W. Kohn, L. J. Sham // Phys. Rev. − 1965. − V. 140. − P. A1133−A1138. DOI:10.1103/PhysRev.140.A1133; Мансуров, В. Г. Образование упорядоченной фазы (88) SiN и аморфной фазы Si3N4 на поверхности (111)Si в потоке аммиака / В. Г. Мансуров, Ю. Г. Галицын, Т. В. Малин, К. С. Журавлев // Тез. докл. XII Российской конференции по физике полупроводников. − М. : Физический институт им. П. Н. Лебедева РАН, 2015. − C. 456.; Wang, X.−S. Nitridation of Si(111) / X.−S. Wang, G. Zhai, J.−S. Yang, L. Wang, Y. Hu, Z. Li, J. C. Tang, K. K. Fung, N. Cue // Surf. Sci. − 2001. − V. 494, N 2. − P. 83—94. DOI:10.1016/S00396028(01)01409-1; Абгарян, К. К. Применение оптимизационных методов для решения задач параметрической идентификации потенциалов межатомного взаимодействия / К. К. Абгарян, М. А. Посыпкин // Ж. вычисл. матем. и матем. физ. − 2014. − Т. 54, № 12. − С. 1994— 2001.; Абгарян, К. К. Математическое моделирование процессов формирования кластеров точечных дефектов на базе молекулярно−динамического подхода / К. К. Абгарян, О. В. Володина, С. И. Уваров // Известия вузов. Материалы электрон. техники. − 2015. − Т. 18, № 1. − С. 31—42. DOI:10.17073/1609-35772015-1-37-42; Евтушенко Ю. Г. Параллельный поиск глобального экстремума функций многих переменных / Ю. Г. Евтушенко, В. У. Малкова, А. А. Станевичюс // Ж. вычисл. матем. и матем. физ. − 2009. − Т. 49, № 2. − С. 255—269.; Tersoff, J. Empirical interatomic potential for silicon with improved elastic properties / J. Tersoff // Phys. Rev. B. − 1988. − V. 38, iss. 14. − P. 9902—9905. DOI:10.1103/PhysRevB.38.9902; VASP. http://cms.mpi.univie.ac.at/vasp/; Евтушенко, Ю. Г. Оптимизация и быстрое автоматическое дифференцирование / Ю. Г. Евтушенко. − Препринт ВЦ РАН, 2013. − 144 с.; Panteleev, A. V. Optimization methods in examples and tasks / A. V. Panteleev, T. A. Letova − Moscow : Heigh school, 2005. − 544 p.; Powell, D. Elasticity, lattice dynamics and parameterisation techniques for the Tersoff potential applied to elemental and type III−V semiconductors: Ph.D. thesis / D. Powell. − University of Sheffield, 2006.; Зализняк, В. Е. Основы вычислительной физики. Ч. 2. Введение в метод частиц / В. Е. Зализняк. − М.; Ижевск: НИЦ «Регулярная и хаотическая динамика»; Институт компьютерных исследований, 2006. − С. 26—45.; Кривцов, А. М. Метод частиц и его использование в механике деформируемого твердого тела / А. М. Кривцов, Н. В. Кривцова // Дальневосточный математический журнал ДВО РАН. − 2002. − Т. 3, № 2. − С. 254—276.; https://met.misis.ru/jour/article/view/225

  11. 11
  12. 12
  13. 13
  14. 14
  15. 15
  16. 16
  17. 17
  18. 18
    Academic Journal

    Source: Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering; Том 18, № 1 (2015); 43-47 ; Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники; Том 18, № 1 (2015); 43-47 ; 2413-6387 ; 1609-3577 ; undefined

    File Description: application/pdf

    Relation: https://met.misis.ru/jour/article/view/154/146; Green, M. A. Solar cell efficiency tables (version 42) / M. A. Green, K. Emery, Y. Hishikawa, W. Warta, E. D. Dunlop // ProgressinPhotovoltaicsResearchandApplications.−2013.−V. 21. − P. 827—837.; Perdew,J.P.Generalizedgradientapproximationmadesimple / J. P. Perdew, K. Burke, M. Ernzerhof // Phys. Rev. Lett. − 1996. − V. 77, N 18. − P. 3865—3868.; Kohn,W.Self−consistentequationsincludingexchangeand correlation effects / W. Kohn, L. J. Sham // Phys. Rev. A. − 1965. − V. 140, N 4. − P. 1133—1138.; Blöchl, P. E. Projector augmented−wave method / P. E. Blöchl // Phys. Rev. B. − 1994. − V. 50, N 4. − P. 17953—17979.; Kresse, G. Efficient iterative schemes for ab initio total− energy calculations using a plane−wave basis set / G. Kresse, J. Furthmuller // Phys. Rev. B. − 1996. − V. 54. − P. 11169—11186.; Brebrick, R. High temperature thermodynamic data for CdTe(c) / R. Brebrick // J. Phase Equilibria and Diffusion. − 2010. − V. 31, N 3. − P. 260—269.; Krukau,A.V.Influenceoftheexchangescreeningparameter on the performance of screened hybrid functionals / A. V. Krukau, O. A. Vydrov, A. F. Izmaylov, G. E. Scuseria // J. Chemi. Phys. − 2006. − V. 125. − P. 224106.; Grill, R. Point defects and diffusion in cadmium telluride / R. Grill, A. Zappettini // Progress in Crystal Growth and Characterization of Materials. − 2004. − V. 48/49. − P. 209—244.; Krasikov, D. Why shallow defect levels alone do not cause high resistivity in CdTe / D. Krasikov, A. Knizhnik, B. Potapkin, T. Sommerer // Semiconductor Science and Technology. − 2013. − V. 28. − P. 125019.; Franc, J. Galvanomagnetic properties of CdTe below and above the melting point / J. Franc, P. Höschl, R. Grill, L. Turjanska, E. Belas, P. Moravec // J. Electronic Materials. − 2001. − V. 30, N 6. − P. 595—602.; Grill, R. Chemical diffusion in CdTe : Cl / R. Grill, B. Nahlovskyy, E. Belas, M. Bugar, P. Moravec, P. Höschl // Semiconductor Science and Technology. − 2010. − V. 25. − P. 045019.; Popovych,V.D.Theeffectofchlorinedopingconcentration on the quality of CdTe single crystals grown by the modified physical vapor transport method / V. D. Popovych, I. S. Virt, F. F. Sizov, V. V. Tetyorkin,Z.F.Tsybrii(Ivasiv),L.O.Darchuk,O.A.Parfenjuk, M. I. Ilashchuk // J. Cryst. Growth. − 2007. − V. 308. − P. 63—70.; Shin, H.−Y. Temperature−gradient−solution grown CdTe crystals for γ−ray detectors / H.−Y. Shin, C.−Y. Sun // J. Cryst. Growth. − 1998. − V. 186. − P. 67—78.; https://met.misis.ru/jour/article/view/154

  19. 19
    Academic Journal

    Source: Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering; Том 18, № 1 (2015); 48-51 ; Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники; Том 18, № 1 (2015); 48-51 ; 2413-6387 ; 1609-3577 ; undefined

    File Description: application/pdf

    Relation: https://met.misis.ru/jour/article/view/155/147; Абгарян,К.К.Применениеоптимизационныхметодовдля моделирования многослойных полупроводниковых наносистем / К. К. Абгарян // Тр. Ин−та системного анализа Рос. акад. наук. Динамика неоднородных систем. − 2010. − Т. 53(3).; Meng,W.J.GrowthofaluminumnitridethinfilmsonSi(111) and Si(001): Structural characteristics and development of intrinsic stress / W. J. Meng, J. A. Sell, T. A. Perry, L. E. Rehn, P. M. Baldo // J. Appl. Phys. − 1994. − V. 75. − P. 3446—3456.; Blöchl, P. E. Projector augmented−wave method / P. E. Blöchl // Phys. Rev. − 1994. − V. 50, N 24. − P. 17953—17979.; Kresse, G. Efficient iterative schemes for ab initio total− energy calculations using a plane−wave basis set / G. Kresse, J. Furthmuller // Phys. Rev. B. − 1996. − V. 54. − P. 11169—11186.; Monkhorst,H.SpecialpointsforBrillouin−zoneintegrations / H. Monkhorst, J. Pack // Phys. Rev. B. −1976. − V. 13. − P. 5188.; Kukushkin, S. A. Substrates for epitaxy of gallium nitride: new materials and techniques / S. A. Kukushkin, A. V. Osipov, V. N. Bessolov, B. K. Medvedev, V. K. Nevolin, K. A. Tcarik // Rev. Adv. Mater. Sci. − 2008. − V. 17. − P. 1—32.; Litvinov,D.Transmissionelectronmicroscopyinvestigation of AlN growth on Si(111) / D. Litvinov, D. Gerthsen, R. Vöhringer, D. Z. Hu, D. M. Schaadt // J. Cryst. Growth. − 2012. − V. 338. − P. 283—290.; Batyrev,I.AbinitiocalculationsontheAl2O3(0001)surface/ I.Batyrev,A.Alavi,M.W.Finnis//FaradayDiscuss.−1999−V. 114. − P. 33—43.; Holec,D.SurfaceenergiesofAlNallotropesfromfirstprinciples/D.Holec,P.H.Mayrhofer//ScriptaMaterialia.−2012.−V. 67. − P. 760—762.; Zhu,D.Low−costhigh−efficiencyGaNLEDonlarge−area Si substrate / D. Zhu, C. J. Humphreys // Proc. CS MANTECH Conf. − New Orleans (Louisiana, USA), 2013. − P. 269—272.; https://met.misis.ru/jour/article/view/155

  20. 20
    Academic Journal

    Source: Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering; Том 18, № 1 (2015); 37-42 ; Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники; Том 18, № 1 (2015); 37-42 ; 2413-6387 ; 1609-3577 ; undefined

    File Description: application/pdf

    Relation: https://met.misis.ru/jour/article/view/153/145; Fedina,L.I.Electronmicroscopydataforthresholdenergyof point defect creation in silicon. / L. I. Fedina, A. L. Aseev, S. G. Denisenko, L. S. Smirnov // Materials Science Forum: Defects in Semiconductors. Edit. by H. J. Bardeleben. 1986. V. 10−12. − P. 1123—1128.; Aseev, A. L. Clusters of interstitial atoms in silicon and germanium / A. L. Aseev, L. I. Fedina, D. Hoehl, H. Barsch. − Berlin : Acad. Verlag, 1994. − 152 p.; Fedina,L.TheintrinsicpointdefectclusteringinSi:Astudy by HVEM and HREM in situ electron irradiation / L. Fedina, A. Gutakovskii, A. Aseev, J. Van Landuyt, J. Vanhellemont. − Novosibirsk : Kluwer Intern. Publish, 1997. − P. 63—92.; Al−Mushadani, O. K. Free−energy calculations of intrinsic point defects in silicon / O. K. Al−Mushadani, R. J. Needs // Phys. Rev. B. − 2003. − V. 68, iss. 23. − P. 235205.; Goedecker, S. A fourfold coordinated point defect in silicon / S. Goedecker, T. Deutsch, L. Billard // Phys. Rev. Lett. − 2002. − V. 88. − P. 235501.; Hohenberg, P. Inhomogeneous electron gas / P. Hohenberg, W. Kohn // Phys. Rev. B. − 1964. − V. 136, iss. 3. – P. B864.; Kohn, W. Self−consistent equations including exchange and correlationeffects/W.Kohn,L.J.Sham//Phys.Rev.−1965.−V. 140. − P. A1133—A1138.; Tang,M.Intrinsicpointdefectsincrystallinesilicon:Tight− binding molecular dynamics studies of self−diffusion, interstitial− vacancy recombination and formation volumes / M. Tang, L. Colombo, J. Zhu, T. Diaz de la Rubia // Phys. Rev. B. − 1997. − V. 55, iss. 21. − P. 14279—14289.; Fedina, L. I. Extended defects formation in Si crystals by clustering of intrinsic point defects studied by in−situ electron irradiation in an HREM / L. I. Fedina, A. K. Gutakovskii, L. A. Aseev, J. van Landuyt, J. Vanhellemont // Phys. status solidi (a). − 1999. − V. 171, iss. 1. − P. 147—157.; Fedina, L. I. Precision measurements of nanostructure parameters / L. I. Fedina, D. V. Sheglov, A. K. Gutakovskii, S. S. Kosolobov, A. V. Latyshev // Optoelectronics, Instrumentation and Data Processing. −2010. −V. 46, N 4. − P. 301—311.; Watkins, G. D. In radiation effects in semiconductors / G. D. Watkins. − N. Y. : Plenum Press Inc., 1968. − P. 67; VASP—http://cms.mpi.univie.ac.at/vasp/; Abgaryan, K. K. Optimization methods as applied to parametric identification of interatomic potentials / K. K. Abgaryan, M. A. Posypkin // Computational Mathematics and Mathematical Physics. − 2014. − V. 54, N 12. − P. 1994—2001.; Tersoff, J. Empirical interatomic potential for silicon with improvedelasticproperties/J.Tersoff//Phys.Rev.B.−1988.−V. 38. − P. 9902—9905.; Абгарян, К. К. Программный комплекс для решения задач параметрической идентификации потенциалов межатомного взаимодействия / К. К. Абгарян, М. А. Посыпкин // Internat. J. Open Information Technologies. − 2014. − No 10. − C. 14—20.; Хук,P.Прямойпоискрешениядлячисловыхистатических проблем / P. Хук, Т. А. Дживс. − M. : Мир, 1961. − С. 212—219.; Powell,D.Elasticity,latticedynamicsandparameterisation techniques for the Tersoff potential applied to elemental and type III—V semiconductors : dis. − University of Sheffield, 2006.; Абгарян, К. К. Применение параллельных вычислений и метода молекулярной динамики для моделирования роста многослойных полупроводниковых наноструктур / К. К. Абгарян, Н. В. Быков, И. В. Мутигуллин // Материалы IX Междунар. конф. по неравновесным процессам в соплах и струях (NPNJ 2012). − М. : Изд−во МАИ, 2012. − С. 457—459.; Haile, J. M. Molecular dynamics simulation. elementary methods / J. M. Haile. − N. Y.; Chichester; Brisbane; Toronto; Singapore : J. Wiley ans Sons Inc., 1992. − 505 p.; Rapaport, D. C. The art of molecular dynamics simulation / D. C. Rapaport. − Cambridge : Cambridge University Press, 1995. − 565 p.; Супрядкина, И. А. Теоретическое исследование ионно− индуцированных точечных дефектов и их комплексов в кремнии / И. А. Супрядкина, К. К. Абгарян, Д. И. Бажанов, И. В. Мутигуллин, Л. И. Федина / Материалы междунар. конф. ВИП. − Ярославль, 2013. − Т. 1. − С. 204—206.; https://met.misis.ru/jour/article/view/153