-
1Academic Journal
Authors: D. I. Brinkevich, E. V. Grinyuk, V. S. Prosolovich, S. D. Brinkevich, V. V. Kolos, O. A. Zubova, Д. И. Бринкевич, Е. В. Гринюк, В. С. Просолович, С. Д. Бринкевич, В. В. Колос, О. А. Зубова
Contributors: The work was carried out within the framework of task 2.16 of the State Research Programe "Material Science, New Materials and Technologies", subprograme "Nanostructured materials, nanotechnologies, nanotechnique" ("Nanostructure")., Работа выполнена в рамках задания 2.16 государственной программы научных исследований “Материаловедение, новые материалы и технологии”, подпрограммы “Наноструктурные материалы, нанотехнологии, нанотехника” (“Наноструктура
Source: Devices and Methods of Measurements; Том 16, № 1 (2025); 69-76 ; Приборы и методы измерений; Том 16, № 1 (2025); 69-76 ; 2414-0473 ; 2220-9506 ; 10.21122/2220-9506-2025-16-1
Subject Terms: нарушенное полное внутреннее отражение, silicon, reflectance-absorption spectroscopy, attenuated total reflection, кремний, отражательно-абсорбционная спектроскопия
File Description: application/pdf
Relation: https://pimi.bntu.by/jour/article/view/930/720; Sunipa R., Ghosh C.K., Dey S., Pal A.K. Solid State and Microelectronics Technology. – Singapore: Bentham Science Publishers Pte. Ltd., 2023. – 407 p. DOI:10.2174/9789815079876123010001; Гранько С.В. Применение фоторезистивных масок для маскирования ионного пучка в технологии КМОП интегральных схем / С.В. Гранько [и др.] // Вестник Нижегородского университета. Сер. Физика. – 2001. – № 2. – С. 41–47.; Моро У. Микролитография. Принципы, методы, материалы. В 2-х ч. Ч. 2. – М.: Мир, 1990. – 632 с.; Mack C.A. Field Guide to Optical Lithography. – SPIE Press, Bellingham, WA, 2006. – 122 p.; Харченко А.А. Радиационно-индуцированные процессы в структурах DLC/полиимид при облучении γ-квантами 60Со / А.А. Харченко [и др.] // Химия высоких энергий. – 2022. – Т. 56, № 5. – С. 378–387. DOI:10.31857/S0023119322050059; Преч Э., Бюльманн Ф., Аффольтер К. Определение строения органических соединений. Таблицы спектральных данных, Москва, Мир, Бином. 2006. – 438 c.; Бринкевич С.Д. Модификация пленок диазохинон-новолачного фоторезиста за областью внедрения ионов В+ / С.Д. Бринкевич [и др.] // Химия высоких энергий. – 2020. – Т. 54, № 5. – С. 377–386. DOI:10.31857/S0023119320050046; Garcia I.T.S. The effects of nuclear and electronic stopping powers on ion irradiated novolac–diazoquinone films / I.T.S.Garcia, F.C.Zawislak, D.Samios // Applied Surface Science. – 2004. – Vol. 228, no. 1–4. – Pр. 63–76. DOI:10.1016/j.apsusc.2003.12.027; Бринкевич Д.И. Модификация спектров отражения пленок диазохинон-новолачного фоторезиста при имплантации ионами бора и фосфора / Д.И. Бринкевич [и др.] // Микроэлектроника. – 2019. – Т. 48, № 3. – С. 235–239. DOI:10.1134/S0544126919020029; Аскадский А.А., Кондрашенко В.И. Компьютерное материаловедение полимеров. Том 1. Атомномолекулярный уровень. М.: Научный мир. 1999. – 544 с.; Poljansek I. Characterization of phenol-ureaformaldehyde resin by inline FTIR spectroscopy / I. Poljansek, U. Sebenik, M. Krajnc // Journal of Applied Polymer Science. – 2006. – Vol. 99, no. 5. – Pp. 2016–2028. DOI:10.1002/app22161; Бринкевич Д.И. Инфракрасная Фурье-спектроскопия структур фоторезист/кремний, используемых для обратной литографии / Д.И. Бринкевич [и др.] // Журнал прикладной спектроскопии. – 2023. – Т. 90, № 6. – С. 863–869.; https://pimi.bntu.by/jour/article/view/930