Formation of Mn4 Si7 films by magnetron sputtering and a wide range of their thermoelectric properties

Συγγραφείς: Bekpulatov, Ilkhom, Loboda, Vera, Normuradov, Muradulla, Donaev, Burkhon, Turapov, Ilkhom

Πηγή: St. Petersburg Polytechnical University Journal: Physics and Mathematics, Vol 16, Iss 2 (2023)

Θεματικοί όροι: magnetron sputtering, Physics, QC1-999, cleaning of silicon wafer, высший силицид марганца, silicon, удельное сопротивление, 7. Clean energy, thermoelectric properties, магнетронные распыление, resistivity, QA1-939, термоэлектрические свойства, Mathematics, коэффициент Зеебека

Σύνδεσμος πρόσβασης: https://doaj.org/article/312976894aeb4f2781b8448dfc9cc0b6

Осаждение покрытий с МАХ-фазой из плазмы магнетронного разряда

Συγγραφείς: Хохлова, Юлия Алексеевна

Συνεισφορές: Юрьев, Юрий Николаевич

Θεματικοί όροι: MAX-фаза, магнетронные распыление, планарный магнетрон, параметры осаждения, твёрдость, MAX-phase, magnetron sputtering, planar magnetron, deposition parameters, hardness, 14.03.02, 621.793:621.359:621.385.64

Περιγραφή αρχείου: application/pdf

Relation: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/71787

Διαθεσιμότητα: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/71787