Пленки ITO, нанесенные на кремний методом CVD

Authors: Kabulov, R.R., Kutlimratov, A., Saidov, A.S., Hajiev, M.U., Juraev, H.N.

Source: Электронная обработка материалов (6) 25-31

Subject Terms: crystal structure, пленки ITO, chemical vapordeposition method, Resistivity, удельное сопротивление, метод CVD, фазовый состав, параметр решетки, Diffraction pattern, indium tin oxide films, lattice parameter, phasecomposition, кристаллическаяструктура, дифрактограмма

File Description: application/pdf

Access URL: https://ibn.idsi.md/vizualizare_articol/218165