Формирование гладкого и микропористого подложечного материала на основе ZnO

Πηγή: Конденсированные среды и межфазные границы, Vol 26, Iss 3 (2024)

Θεματικοί όροι: Chemistry, подложки, горячая мишень, микропористая структура, оксид цинка, нитридные технологии, магнетронное распыление, QD1-999

Σύνδεσμος πρόσβασης: https://doaj.org/article/d16897a850ee41d887cdc41a2f4a638c

Исследование потоков частиц и формирование элементного состава CrAlNx покрытий с использованием магнетронных распылительных систем

Συγγραφείς: Агатанова, Алина Армановна

Συνεισφορές: Блейхер, Галина Алексеевна

Θεματικοί όροι: магнетронное распыление, дуальный магнетрон, "горячая" мишень, Cr-Al-Nx покрытие, планетарное вращение подложек, magnetron sputtering, dual magnetron, "hot" target, Cr-Al-Nx coating, planetary rotation of substrates, 621.793.182.02:669.26.058

Περιγραφή αρχείου: application/pdf

Relation: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/75723

Διαθεσιμότητα: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/75723

Высокоскоростное осаждение CrAlN покрытий с помощью магнетронного распыления

Συγγραφείς: Осипова, Елизавета Сергеевна

Συνεισφορές: Сиделёв, Дмитрий Владимирович

Θεματικοί όροι: реактивное магнетронное распыление, высокочастотная плазма, горячая мишень, радиочастотный плазменный генератор, твёрдость, reactive magnetron sputtering, high-frequency plasma, hot target, radio frequency inductively-coupled plasma, hardness, 14.03.02, 621.793.182.02:669.26.058

Περιγραφή αρχείου: application/pdf

Relation: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/75070

Διαθεσιμότητα: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/75070

Осаждение хромовых покрытий с помощью дуального магнетронного диода с горячей мишенью

Συγγραφείς: Зиньковский, Константин Алексеевич

Συνεισφορές: Сиделёв, Дмитрий Владимирович

Θεματικοί όροι: хромовые покрытия, циркониевые сплавы, магнетронное распыление, горячая мишень, высокотемпературное окисление, тепловыделяющий элемент, chromium coatings, zirconium alloys, magnetron sputtering, hot target, high-temperature oxidation, nuclear fuel claddings, 14.03.02, 621.793.7:669.26:621.385.64

Περιγραφή αρχείου: application/pdf

Relation: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/71602

Διαθεσιμότητα: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/71602

Высокоскоростное магнетронное осаждение оксидных и нитридных покрытий

Συγγραφείς: Грудинин, Владислав Алексеевич

Συνεισφορές: Блейхер, Галина Алексеевна

Θεματικοί όροι: покрытия из нитрида хрома, горячая мишень, магнетронное распыление, сублимация, высокоскоростное осаждение, chromium nitride coatings, hot target, magnetron sputtering, sublimation, high-rate deposition, 03.06.01, 621.794.6:621.359:621.385.64

Περιγραφή αρχείου: application/pdf

Relation: Грудинин В. А. Высокоскоростное магнетронное осаждение оксидных и нитридных покрытий : научный доклад / В. А. Грудинин; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Управление магистратуры, аспирантуры и докторантуры (УМАД), Отделение экспериментальной физики (ОЭФ); науч. рук. Г. А. Блейхер. — Томск, 2022.; http://earchive.tpu.ru/handle/11683/70855

Διαθεσιμότητα: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/70855

Исследование условий осаждения покрытий на основе нитрида хрома при работе магнетрона с горячей мишенью

Συγγραφείς: Гладышева, Анжела Николаевна

Συνεισφορές: Блейхер, Галина Алексеевна

Θεματικοί όροι: магнетронное распыление, горячая мишень, хромовые покрытия, нитрид хрома, высокоскоростное осаждение, magnetron sputtering, hot target, chromium coatings, chromium nitride, high speed deposition, 16.04.01, 621.385.64:621.793:621.357.74

Περιγραφή αρχείου: application/pdf

Relation: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/66679

Διαθεσιμότητα: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/66679

Высокоскоростное осаждение плёнок хрома с помощью магнетронной распылительной системой с горячей мишенью

Συγγραφείς: Койшыбаева, Жанымгул Койшыбайкызы

Συνεισφορές: Сиделёв, Дмитрий Владимирович

Θεματικοί όροι: высокоскоростное осаждение покрытий, магнетронные распылительные системы, магнетронное распыление с высокой мощностью, хромовое покрытие, горячая мишень, high-rate deposition of films, magnetron sputtering system, magnetron sputtering with high power, chromium coatings, a hot target, 16.04.01, 538.975

Περιγραφή αρχείου: application/pdf

Relation: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/30090

Διαθεσιμότητα: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/30090