Феноменологическая модель травления металлического покрытия в плазме газовой смеси ; Phenomenological model of metal coating etching in a gas mixtured plasma

Συγγραφείς: Емельянов, В.В., Купо, А.Н., Емельянов, В.А., Emelyanov, V.V., Kupo, A.N., Emelyanov, V.A.

Θεματικοί όροι: плазмохимическое травление, алюминиевые межсоединения, математическое моделирование плазменных процессов, plasma-chemical etching, aluminum interconnects, mathematical modeling of plasma processes

Περιγραφή αρχείου: application/pdf

Relation: https://elib.gsu.by/handle123456789/64529; 621.382; https://doi.org/10.54341/20778708_2023_4_57_69

Διαθεσιμότητα: https://elib.gsu.by/handle123456789/64529
https://doi.org/10.54341/20778708_2023_4_57_69