Электродная структура плазменного электронно-ионного источника для совместного формирования электронных и ионных пучков ; The Electrode Structure of a Plasma Electron-Ion Source for the Simultaneos Formation of Electron And Ion Beams

Authors: Антонович, Д. А., Груздев, В. А., Солдатенко, П. Н., Залесский, В. Г., Antonovich, D., Gruzdev, V., Soldatenko, P., Zaleski, V.

Subject Terms: Государственный рубрикатор НТИ - ВИНИТИ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика, Плазменный источник заряженных частиц, Электронно-ионное воздействие, Электронные пучки, Компенсированные ионные пучки, Plasma source of charged particles, Electron-ion influence, Electron beams, Compensated ion beams

Relation: Веснік Полацкага дзяржаўнага ўніверсітэта. Серыя C, Фундаментальныя навукі; Herald of Polotsk State University. Series C, Fundamental sciences; Вестник Полоцкого государственного университета. Серия C, Фундаментальные науки; Серия C, Фундаментальные науки;2020. - № 4; https://elib.psu.by/handle/123456789/24909; 537.533

Availability: https://elib.psu.by/handle/123456789/24909

Plasma source of charged particles for the formation of combined ion-electron beams ; Плазменный источник заряженных частиц для формирования совмещенных ионно-электронных пучков

Authors: D. A. Antonovich, V. A. Gruzdev, V. G. Zalesski, P. N. Soldatenko, Д. А. Антонович, В. А. Груздев, В. Г. Залесский, П. Н. Солдатенко

Source: Proceedings of the National Academy of Sciences of Belarus. Physical-technical series; Том 65, № 3 (2020); 285-291 ; Известия Национальной академии наук Беларуси. Серия физико-технических наук; Том 65, № 3 (2020); 285-291 ; 2524-244X ; 1561-8358 ; 10.29235/1561-8358-2020-65-3

Subject Terms: компенсированные ионные пучки, electron-ion influence, electron beams, compensated ion beams, электронно-ионное воздействие, электронные пучки

File Description: application/pdf

Relation: https://vestift.belnauka.by/jour/article/view/612/500; Физика и технология плазменных эмиссионных систем / под общ. ред. В.Т. Барченко. – СПб.: Изд-во С.‑Петерб. гос. электротехн. ун-та «ЛЭТИ», 2014. – 286 с.; Кузьмичёв, А.И. Магнетронные распылительные системы / А.И. Кузьмичёв. – Киев: Аверс, 2008. – Кн. 1: Введение в физику и технику магнетронного распыления. – 244 с.; Окс, Е.М. Источники электронов с плазменным катодом: физика, техника, применения / Е.М. Окс. – Томск: Изд-во науч.-техн. лит., 2005. – 216 с.; Universal plasma electron source / V.A. Gruzdev [et al.] // Vacuum. – 2005. – Vol. 77, iss. 4. – P. 399–405. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2004.05.007; Крейндель, Ю.Е. Плазменные источники электронов / Ю.Е. Крейндель. – М.: Атомиздат, 1977. – 144 с.; Ремпе, Н.Г. Промышленное применение электронных пушек с плазменным катодом / Н.Г. Ремпе // Плазменная эмиссионная электроника: тр. II Междунар. Крейнделевского семинара, г. Улан-Удэ, 17–24 июня 2006 г. – Улан-Удэ: Изд-во Бурят. науч. центра СО РАН, 2006. – С. 108–112.; Plasma emission systems for electron and ion-beams technologies / D.A. Antonovich [et al.] // High Temperature Material Processes: An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes. – 2017. – Vol. 21, iss. 2. – P. 143–159. https://doi.org/10.1615/HighTempMatProc.2017024672; Бугаев, С.П. Электронные пучки большого сечения / С.П. Бугаев, Ю.Е. Крейндель, П.М. Щанин. – М.: Энергоатомиздат, 1984. – 112 с.; https://vestift.belnauka.by/jour/article/view/612

Availability: https://vestift.belnauka.by/jour/article/view/612
https://doi.org/10.29235/1561-8358-2020-65-3-285-291

Электродная структура плазменного электронно-ионного источника для совместного формирования электронных и ионных пучков

Authors: Antonovich, D. A., Gruzdev, V. A., Soldatenko, P. N., Zaleski, V. G.

Subject Terms: plasma source of charged particles, электронно-ионное воздействие, плазменный источник заряженных частиц, electron-ion influence, компенсированные ионные пучки, электронные пучки, compensated ion beams, electron beams

File Description: application/pdf

Access URL: https://rep.vsu.by/handle/123456789/34104