Showing 1 - 20 results of 85 for search '"УДЕЛЬНОЕ ЭЛЕКТРОСОПРОТИВЛЕНИЕ"', query time: 0.66s Refine Results
  1. 1
  2. 2
  3. 3
  4. 4
    Academic Journal

    Source: Proceedings of the National Academy of Sciences of Belarus. Physics and Mathematics Series; Том 60, № 2 (2024); 162-176 ; Известия Национальной академии наук Беларуси. Серия физико-математических наук; Том 60, № 2 (2024); 162-176 ; 2524-2415 ; 1561-2430 ; 10.29235/1561-2430-2024-60-2

    File Description: application/pdf

    Relation: https://vestifm.belnauka.by/jour/article/view/783/604; Структура и микромеханические свойства покрытий TiAlSiN, TiAlSiCN, сформированных методом реактивного магнетронного распыления / Ф. Ф. Комаров [и др.] // Вес. Нац. акад. навук Беларусі. Сер. фіз.-мат. навук. – 2023. – T. 59, № 3. – С. 241–252. https://doi.org/10.29235/1561-2430-2023-59-3-241-252; Optical properties of TiAlC/TiAlCN/TiAlSiCN/TiAlSiCO/TiAlSiO tandem absorber coatings by phase-modulated spectroscopic ellipsometry / J. Jyothi [et al.] // Appl. Phys. A. – 2017. – Vol. 123. – Art. ID 496. https://doi.org/10.1007/s00339-017-1103-2; Spacecraft Thermal Control Handbook. Volume 1: Fundamental Technologies / ed. D. G. Gilmore. – El Segundo, California: 2nd The Aerospace Press, 2002. – 836 p. https://doi.org/10.2514/4.989117; Titanium-aluminum-nitride coatings for satellite temperature control / M. Brogren [et al.] // Thin Solid Films. – 2000. – Vol. 370. – P. 268–277. https://doi.org/10.1016/S0040-6090(00)00914-7; Терморегулирующее покрытие К-208СР. Технология получения, свойства и их изменения в процессе эксплуатации при воздействии факторов космического пространства / В. П. Свечкин [и др.] // Космич. техника и технологии. – 2017. – Т. 17, № 2. – С. 99–107.; Zhang, J. The microstructural, mechanical and thermal properties of TiAlVN, TiAlSiN monolithic and TiAlVN/TiAlSiN multilayered coatings / J. Zhang, L. Chen, Y. Kong // J. Alloys Compd. – 2022. – Vol. 899. – P. 163332. https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2021.163332; Thermal stability, mechanical properties, and tribological performance of TiAlXN coatings: understanding the effects of alloying additions / W. Y. H. Liew [et al.] // J. Mat. Res. Technol. – 2022. – Vol. 17. – P. 961–1012. https://doi.org/10.1016/j.jmrt.2022.01.005; A review of high-temperature selective absorbing coatings for solar thermal applications / K. Xu [et al.] // J. Materiomics. – 2020. – Vol. 6, № 1. – P. 167–182. https://doi.org/10.1016/j.jmat.2019.12.012; VO2-based smart coatings with improved emittance-switching properties for an energy-efficient near room-temperature thermal control of spacecrafts / A. Hendaoui [et al.] // Sol. Energy Mater. Sol. Cells. – 2013. – Vol. 117. – P. 494–498. https://doi.org/10.1016/j.solmat.2013.07.023; Analytical and numerical models for thermal related design of a new pico-satellite / M. Bonnici [et al.] // Appl. Therm. Eng. – 2019. – Vol. 159. – P. 113908. https://doi.org/10.1016/j.applthermaleng.2019.113908; Effects of Si addition on structure and mechanical properties of TiAlSiCN coatings / X. Zhang [et al.] // Surf. Coat. Technol. – 2019. – Vol. 362. – P. 21–26. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2019.01.056; Understanding the wear failure mechanism of TiAlSiCN nanocomposite coating at evaluated temperatures / F. Guo [et al.] // Trib. Int. – 2021. – Vol. 154. – P. 106716. https://doi.org/10.1016/j.triboint.2020.106716; Valleti, K. Functional multi-layer nitride coatings for high temperature solar selective applications / K. Valleti, D. M. Krishna, S. V. Joshi // Sol. Energy Mater. Sol. Cells. – 2014. – Vol. 121. – P. 14–21. https://doi.org/10.1016/j.solmat.2013.10.024; Effects of deposition and post-annealing conditions on electrical properties and thermal stability of TiAlN films by ion beam sputter deposition / S.-Y. Lee [et al.] // Thin Solid Films. – 2006. – Vol. 515, № 3. – P. 1069–1073. https://doi.org/10.1016/j.tsf.2006.07.172; Electrical and Corrosion Properties of Titanium Aluminum Nitride Thin Films Prepared by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition / E.-Y. Yun [et al.] // J. Mater. Sci. Technol. – 2017. – Vol. 33, № 3. – P. 295–299. https://doi.org/10.1016/j.jmst.2016.11.027; Crystal growth and microstructure of polycrystalline Ti1−xAlxN alloy films deposited by ultra-high-vacuum dualtarget magnetron sputtering / U. Wahlström [et al.] // Thin Solid Films. – 1993. – Vol. 235, № 1–2. – P. 62–70. https://doi.org/10.1016/0040-6090(93)90244-J; Nanostructured TiAlCuN and TiAlCuCN coatings for spacecraft: effects of reactive magnetron deposition regimes and compositions // F. F. Komarov [et al.] // RSC Advanced. – 2023. – № 13. – P. 18898–18907. https://doi.org/10.1039/D3RA02301J; Структурно-фазовые состояния и микромеханические свойства наноструктурированных покрытий TiAlCuN / С. В. Константинов [и др.] // Докл. Нац. акад. наук Беларуси. – 2023. – Т. 67, № 2. – С. 101–110. https://doi.org/10.29235/1561-8323-2023-67-2-101-110; Ашкрофт, Н. Физика твердого тела / Н. Ашкрофт, Н. Мермин. – М.: Мир, 1979. – Т. 2. – 419 с.; Оptimization of TiAlN/TiAlON/Si3N4 solar absorber coatings / L. An [et al.] // Sol. Energy. – 2015. – Vol. 118. – P. 410–418. https://doi.org/10.1016/j.solener.2015.05.042; Бродский, А. Ж. Влияние микроскопической структуры поверхностей металлов на их оптические свойства / А. Ж. Бродский, М. И. Урбах // УФН. – 1982. – Т. 138, вып. 3. – С. 413–453.; Wainstein, D. L. Control of optical properties of metal-dielectric planar plasmonic nanostructures by adjusting their architecture in the case of TiAlN/Ag system / D. L. Wainstein, V. O. Vakhrushev, A. I. Kovalev // J. Phys.: Conf. Ser. – 2017. – Vol. 857. – Art. ID 012054. https://doi.org/10.1088/1742-6596/857/1/012054; Veszelei, M. Optical properties and equilibrium temperatures of titanium-nitride-and graphite-coated Langmuir probes for space application / M. Veszelei, E. Veszelei // Thin Solid Films. – 1993. – Vol. 236, № 1–2. – P. 46–50. https://doi.org/10.1016/0040-6090(93)90640-b; Kauder, L. Spacecraft Thermal Control Coatings References / L. Kauder. – NASA Goddard Space Flight Center Greenbelt, MD, United States, 2005. – 130 p.; Климович, И. М. Влияние температуры нагрева подложек и потенциала смещения на оптические характеристики Ti–Al–C–N покрытий / И. М. Климович, Ф. Ф. Комаров, В. А. Зайков // Докл. Нац. акад. наук Беларуси. – 2018. – Т. 62, № 4. – С. 415–422. https://doi.org/10.29235/1561-8323-2018-62-4-415-422; CRC Handbook of Chemistry and Physics / ed. W. M. Haynes. – 95th ed. – Boca Raton: CRC Press, 2014. – 2704 p. https://doi.org/10.1201/b17118; Eranna, G. Crystal Growth and Evaluation of Silicon for VLSI and ULSI / G. Eranna. – Boca Raton: CRC Press, 2014. – 430 p. https://doi.org/10.1201/b17812; Solid state properties of group IVb carbonitrides. / W. Lengauer [et al.] // J. Alloys Compd. – 1995. – Vol. 217, № 1. – P. 137–147. https://doi.org/10.1016/0925-8388(94)01315-9; Electrophysical properties of TiAlN coatings prepared using controlled reactive magnetron sputtering / I. M. Klimovich [et al.] // Materials and Structures of Modern Electronics: Collection of Scientific Works: proc. of the 6th Int. sci. and tech. conf., Minsk, Oct. 8–9, 2014, BSU. – Minsk, 2014. – P. 5–8.; Residual stresses and tribomechanical behaviour of TiAlN and TiAlCN monolayer and multilayer coatings by DCMS and HiPIMS / W. Tillmann [et. al.] // Surf. Coat. Technol. – 2021. – Vol. 406. – P. 126664. https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2020.126664; Effects of Proton Irradiation on the Structural-Phase State of Nanostructured TiZrSiN Coatings and Their Mechanical Properties / F. F. Komarov [et al.] // J. Eng. Phys. Thermophys. – 2021. – Vol. 94, № 6. – P. 1609–1618. https://doi.org/10.1007/s10891-021-02442-2; Konstantinov, S. V. Effects of nitrogen selective sputtering and flaking of nanostructured coatings TiN, TiAlN, TiAlYN, TiCrN, (TiHfZrVNb)N under helium ion irradiation / S. V. Konstantinov, F. F. Komarov // Acta Phys. Pol. A. – 2019. – Vol. 136, № 2. – P. 303–309. https://doi.org/10.12693/APhysPolA.136.303; Wear resistance and radiation tolerance of He+ -irradiated magnetron sputtered TiAlN coatings / S. V. Konstantinov [et al.] // High Temp. Mater. Proc. – 2014. – Vol. 18, № 1–2. – P. 135–141. https://doi.org/10.1615/hightempmatproc.2015015569; https://vestifm.belnauka.by/jour/article/view/783

  5. 5
    Academic Journal

    Source: Известия Томского политехнического университета
    Bulletin of the Tomsk Polytechnic University

    File Description: application/pdf

  6. 6
    Conference

    Contributors: Чернова, Оксана Сергеевна

    File Description: application/pdf

    Relation: Проблемы геологии и освоения недр : труды XXV Международного симпозиума имени академика М. А. Усова студентов и молодых учёных, посвященного 120-летию горногеологического образования в Сибири, 125-летию со дня основания Томского политехнического университета, Томск, 5-9 апреля 2021 г. Т. 2. — Томск, 2021; http://earchive.tpu.ru/handle/11683/68563

  7. 7
  8. 8
  9. 9
  10. 10
  11. 11
  12. 12
    Academic Journal

    Source: Izvestiya Vysshikh Uchebnykh Zavedenii. Materialy Elektronnoi Tekhniki = Materials of Electronics Engineering; Том 21, № 2 (2018); 112-121 ; Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники; Том 21, № 2 (2018); 112-121 ; 2413-6387 ; 1609-3577 ; 10.17073/1609-3577-2018-2

    File Description: application/pdf

    Relation: https://met.misis.ru/jour/article/view/281/287; Зимин С. П. Классификация электрических свойств пористого кремния // ФТП. 2000. Т. 34, Вып. 3. С. 359—363.; Bisi S., Ossicini S., Pavesi L. Porous silicon: a quantum sponge structure for silicon based optoelectronics // Surf. Sci. Rep. 2000. V. 38, N 1–3. P. l—126. DOI:10.1016/S0167-5729(99)00012-6; Зимин С. П. Прыжковая проводимость в мезапористом кремнии с малой пористостью, сформированном на р+-Si‹B› // ФТП. 2006. Т. 40, Вып. 11. С. 1385—13871.; Сакун Е. А., Полюшкевич А. В., Харлашин П. А., Семенова О. В., Корец А. Я. Разработка пористых структур на кремнии // J. Siberian Federal University. Engineering&Technologies. 2010. Т. 4, № 3. С. 430—443.; Тыныштыкбаев К. Б., Рябикин Ю. А., Токмолдин С. Ж., Айтмукан Т., Ракыметов Б. А., Верменичев Р. Б. Морфология пористого кремния при длительном анодном травлении в электролите с внутренним источником тока // Письма в ЖТФ. 2010. Т. 36, Вып. 11. С. 104—110.; Горячев Д. Н., Беляков Л. В, Сресели О. М. О механизме образования пористого кремния // ФТП. 2000. Т. 34, Вып. 9. C. 1130—1134.; Бучин Э. Ю., Проказников А. В. Характер динамики системы электролит кремний n-типа при анодировании в растворах плавиковой кислоты // Письма в ЖТФ. 1997. Т. 23, № 5. С. 1—7.; Можаев А. В., Проказников А. В. Тимофеев В. В. Динамическая дискретная трехмерная модель порообразования в кремнии // Исследовано в России. URL: http://zhurnal.ape.relarn.ru/articles/2006/069; Xiaoge Gregory Zhang. Electrochemistry of Silicon and Its Oxide. N. Y.; Boston; Dordrecht; London; Moscow: Kluwer Academic Publishers, 2004, 510 p.; Allongue P., Kieling V., Gerischer H. Etching mechanism and atomic structure of H-Si(111) surfaces prepared in NH4F // Electrochim. Acta. 1995. V. 40, N 10. P. 1353—1360. DOI:10.1016/0013-4686(95)00071-L; Трегулов В. В. Пористый кремний: технология, свойства, применение. Рязань: РГУ им. С. А. Есенина, 2011. C. 24.; Улин В. П., Улин Н. В., Солдатенков Ф. Ю. Анодные процессы в условиях химического и электрохимического травления кристаллов кремния в кислых фторидных растворах. Механизм порообразования // ФТП. 2017. Т. 51, Вып. 4. С. 481—496. DOI:10.21883/FTP.2017.04.44340.8393; Улин В. П., Конников С. Г. Природа процессов электрохимического порообразования в кристаллах AIIIBV // ФТП. 2007. Т. 41, Вып. 7. С. 854—866.; Кунакбаев Т. Ж., Тукубаев Э. Э. Моделирование получения пористого кремния на атомном уровне / Хаос и структуры в нелинейных системах. Теория и эксперемент. Междун. научно-практ. конференция. 2015. № 1. С. 171—176. URL: http://portal.kazntu.kz/files/publicate/2015-10-26-elbib_11.pdf; Пискажова Т. В., Савенкова Н. П., Анпилов С. В., Калмыков А. В., Зайцев Ф. С., Аникеев Ф. А. Трехмерное математическое моделирование динамики границы раздела сред алюминия, электролита и зоны обратного окисления металла в зависимости от распределения потенциала // J. Siberian Federal University. Engineering&Technologies. 2017. Т. 10, № 1. С. 59—73. DOI:10.17516/1999-494X-2017-10-1-59-73; Городецкий А. Е., Тарасова И. Л. Компьютерное моделирование процесса формирования пористого кремния // Матем. моделирование. 2008. Т. 20, № 2. С. 105—112.; Латухина Н. В., Дереглазова Т. С., Ивков С. В., Волков А. В., Деева В. А. Фотоэлектрические свойства структур с микро- и нано-пористым кремнием // Известия Самарского научного центра РАН. 2009. Т. 11, № 3. С. 66—70. URL: http://www.ssc.smr.ru/media/journals/izvestia/2009/2009_3_66_70.pdf; Анфимов И. М., Кобелева С. П., Щемеров И. В. Установка для измерения удельного электросопротивления бесконтактным СВЧ методом // Материалы I международной конф. «Актуальные проблемы прикладной физики 2012». Севастополь, 2012. С. 82—83.; Lizunkova D., Latukhina N., Chepurnov V., Paranin V. Nanocrystalline silicon and silicon carbide optical properties // Proc. International conference Information Technology and Nanotechnology. Session Computer Optics and Nanophotonics. Samara (Russia), 2017. V. 1900. P. 84—89. DOI:10.18287/1613-0073-2017-1900-84-89; https://met.misis.ru/jour/article/view/281

  13. 13
  14. 14
  15. 15
  16. 16
  17. 17
    Academic Journal
  18. 18
  19. 19
  20. 20