ВЛИЯНИЕ ПРОЦЕССОВ НА СТЕНКАХ КАПИЛЛЯРА НА ПАРАМЕТРЫ ПЛАЗМЫ ПОЛОЖИТЕЛЬНОГО СТОЛБА РАЗРЯДА НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ

Authors: Мольков, Сергей

Subject Terms: РАЗРЯД НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ, ЭМИССИЯ ЭЛЕКТРОНОВ, КОЭФФИЦИЕНТ АККОМОДАЦИИ, СТЕПЕНЬ ШЕРОХОВАТОСТИ СТЕНКИ, ПАРАМЕТРЫ ПЛАЗМЫ

File Description: text/html

Availability: http://cyberleninka.ru/article/n/vliyanie-protsessov-na-stenkah-kapillyara-na-parametry-plazmy-polozhitelnogo-stolba-razryada-nizkogo-davleniya
http://cyberleninka.ru/article_covers/14774993.png