МОДЕЛИРОВАНИЕ РАЗРУШЕНИЯ И ДОЛГОВЕЧНОСТИ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПРОВОДНИКОВ ИНТЕГРАЛЬНЫХ МИКРОСХЕМ

Συγγραφείς: Валиев, Камиль, Гольдштейн, Роберт, Житников, Юрий, Махвиладзе, Тариэль, Сарычев, Михаил

Θεματικοί όροι: ЭЛЕКТРОМИГРАЦИЯ, ПРОВОДЯЩИЕ ЛИНИИ, ДЕГРАДАЦИЯ, ДОЛГОВЕЧНОСТЬ, ПОРООБРАЗОВАНИЕ, ЭРОЗИЯ, ДИФФУЗИЯ ВАКАНСИЙ, СОПРЯЖЕННЫЕ МОДЕЛИ ДИФФУЗИИ ПОД НАПРЯЖЕНИЕМ

Περιγραφή αρχείου: text/html

Διαθεσιμότητα: http://cyberleninka.ru/article/n/modelirovanie-razrusheniya-i-dolgovechnosti-tonkoplenochnyh-metallicheskih-provodnikov-integralnyh-mikroshem
http://cyberleninka.ru/article_covers/14560113.png

Моделирование разрушения и долговечности тонкопленочных металлических проводников интегральных микросхем

Πηγή: Физическая мезомеханика.

Θεματικοί όροι: ЭЛЕКТРОМИГРАЦИЯ, ПРОВОДЯЩИЕ ЛИНИИ, ДЕГРАДАЦИЯ, ДОЛГОВЕЧНОСТЬ, ПОРООБРАЗОВАНИЕ, ЭРОЗИЯ, ДИФФУЗИЯ ВАКАНСИЙ, СОПРЯЖЕННЫЕ МОДЕЛИ ДИФФУЗИИ ПОД НАПРЯЖЕНИЕМ

Περιγραφή αρχείου: text/html

Σύνδεσμος πρόσβασης: http://cyberleninka.ru/article/n/modelirovanie-razrusheniya-i-dolgovechnosti-tonkoplenochnyh-metallicheskih-provodnikov-integralnyh-mikroshem
http://cyberleninka.ru/article_covers/14560113.png

Моделирование разрушения и долговечности тонкопленочных металлических проводников интегральных микросхем

Θεματικοί όροι: EROSION, VOID FORMATION, ЭЛЕКТРОМИГРАЦИЯ, LIFETIME, ELECTROMIGRATION, DEGRADATION, ДЕГРАДАЦИЯ, ДИФФУЗИЯ ВАКАНСИЙ, ПРОВОДЯЩИЕ ЛИНИИ, ДОЛГОВЕЧНОСТЬ, CONDUCTING LINES, VACANCY DIFFUSION, COUPLED MODELS OF STRESS-INDUCED DIFFUSION, СОПРЯЖЕННЫЕ МОДЕЛИ ДИФФУЗИИ ПОД НАПРЯЖЕНИЕМ, ПОРООБРАЗОВАНИЕ, ЭРОЗИЯ