Showing 1 - 10 results of 10 for search '"ПОДВИЖНОСТЬ ЭЛЕКТРОНОВ"', query time: 0.55s Refine Results
  1. 1
  2. 2
  3. 3
    Academic Journal

    Source: Devices and Methods of Measurements; Том 13, № 4 (2022); 276-280 ; Приборы и методы измерений; Том 13, № 4 (2022); 276-280 ; 2414-0473 ; 2220-9506 ; 10.21122/2220-9506-2022-13-4

    File Description: application/pdf

    Relation: https://pimi.bntu.by/jour/article/view/790/639; De Salvo B. Silicon Non-Volatile Memories: paths of innovation. London: Wiley-ISTE, 2013, 234 p.; Keyes R.W. Physical limits of silicon transistors and circuits. Rep. Prog. Phys., 2005, vol. 68, pp. 2701– 2746. DOI:10.1088/0034-4885/68/12/R01; Gerardi C., Ancarani V., Portoghese R., Giuffrida S., Bileci M., Bimbo G., Brafa O., Mello D., Ammendola G., Tripiciano E., Puglisi R., Lombardo S.A. Nanocrystal Memory Cell Integration in a Stand-Alone 16-Mb NOR Flash Device. IEEE Trans. Electron Devices, 2007, vol. 54, no. 6, pp. 1376–1383. DOI:10.1109/TED.2007.895868; Govoreanu B., Wellekens D., Haspeslagh L., Brunco D.P., De Vos J., Aguado D. Ruiz, Blomme P., Van der Zanden K., Van Houdt J. Performance and Reliability of HfAlOx-based Interpolary Dielectrics for FloatingGate Flash Memory. Solid-State Electron., 2008, vol. 52, no. 4, pp. 557–563. DOI:10.1016/j.sse.2008.01.012; Zhevnyak O.G., Borzdov V.M., Borzdov A.V. Simulation of drain depth effect on parasitic currents in flash-memory cells. Eurasian Union of Scientists. Series: technical, physical and mathematical sciences, 2021, vol. 1, no. 12, pp. 58–61. DOI:10.31618/ESU.2413-9335.2021.1.93.1542; Boukhobza J., Olivier P. Flash Memory Integration. Performance and Energy Considerations. London: ISTE press Ltd. Publ., 2017, 250 p.; Borzdov V.M., Zhevnyak O.G., Komarov F.F., Galenchik V.O. Monte Carlo simulation of device structures of integrated electronics. Minsk: BSU, 2007, 175 p.; Chau Q. An efficient numerical approach to studying impact ionization in sub-micrometer devices. J. Comput. Electron., 2014, no. 13, pp. 329–337. DOI:10.1007/s10825-013-0536-x; Jacoboni C., Lugli P. The Monte Carlo method for semiconductor device simulation. Wien–New York: Springer, 2012, 359 p.; Moglestue C. Monte Carlo Simulation of Semiconductor Devices. Wien: Springer, 2013, 334 p.; https://pimi.bntu.by/jour/article/view/790

  4. 4
  5. 5
    Report

    Contributors: Склярова, Елена Александровна

    File Description: application/pdf

    Relation: Курбанова Н. Влияние структурных дефектов на сверхвысокочастотные характеристики мощного нитрид – галлиевого транзистора с высокой подвижностью электронов : научный доклад / Н. Курбанова; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Управление магистратуры, аспирантуры и докторантуры (УМАД), Отдел аспирантуры и докторантуры (ОАиД); науч. рук. Е. А. Склярова. — Томск, 2020.; http://earchive.tpu.ru/handle/11683/59736

  6. 6
  7. 7
  8. 8
  9. 9
  10. 10