Some peculiarities of a new method of microrelief creation by the direct electron-beam etching of resist ; Некоторые особенности нового метода формирования микрорельефа путём прямого электронно-лучевого травления резиста

Πηγή: Компьютерная оптика; Vol 39, No 2; 204-210 ; Computer Optics; Vol 39, No 2; 204-210 ; 2412-6179 ; 0134-2452

Θεματικοί όροι: electron-beam lithography, new dry method of microrelief creation, optoelectronics, diffractive optical elements, 3D-structures, электронно-лучевая литография, новый сухой метод формирования микрорельефа, оптоэлектроника, дифракционные оптические элементы, 3D-структуры

Περιγραφή αρχείου: application/pdf

Relation: http://www.computeroptics.smr.ru//article/view/2454/2482; http://www.computeroptics.smr.ru//article/view/2454

Διαθεσιμότητα: http://www.computeroptics.smr.ru//article/view/2454

НЕКОТОРЫЕ ОСОБЕННОСТИ НОВОГО МЕТОДА ФОРМИРОВАНИЯ МИКРОРЕЛЬЕФА ПУТЁМ ПРЯМОГО ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО ТРАВЛЕНИЯ РЕЗИСТА

Συγγραφείς: Брук, Марк, Жихарев, Евгений, Стрельцов, Дмитрий, Кальнов, Владимир, Спирин, Александр, Рогожин, Александр

Θεματικοί όροι: ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВАЯ ЛИТОГРАФИЯ, НОВЫЙ СУХОЙ МЕТОД ФОРМИРОВАНИЯ МИКРОРЕЛЬЕФА, ОПТОЭЛЕКТРОНИКА, ДИФРАКЦИОННЫЕ ОПТИЧЕСКИЕ ЭЛЕМЕНТЫ, 3D-СТРУКТУРЫ

Περιγραφή αρχείου: text/html

Διαθεσιμότητα: http://cyberleninka.ru/article/n/nekotorye-osobennosti-novogo-metoda-formirovaniya-mikroreliefa-putyom-pryamogo-elektronno-luchevogo-travleniya-rezista
http://cyberleninka.ru/article_covers/15765387.png

Некоторые особенности нового метода формирования микрорельефа путём прямого электронно-лучевого травления резиста

Πηγή: Компьютерная оптика.

Θεματικοί όροι: ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВАЯ ЛИТОГРАФИЯ, НОВЫЙ СУХОЙ МЕТОД ФОРМИРОВАНИЯ МИКРОРЕЛЬЕФА, ОПТОЭЛЕКТРОНИКА, ДИФРАКЦИОННЫЕ ОПТИЧЕСКИЕ ЭЛЕМЕНТЫ, 3D-СТРУКТУРЫ

Περιγραφή αρχείου: text/html

Σύνδεσμος πρόσβασης: http://cyberleninka.ru/article/n/nekotorye-osobennosti-novogo-metoda-formirovaniya-mikroreliefa-putyom-pryamogo-elektronno-luchevogo-travleniya-rezista
http://cyberleninka.ru/article_covers/15765387.png