Implementation Plasma Chemical Etching in Submicron Technology Wsi Structure

Συγγραφείς: Новосядлий, Степан Петрович, Мельник, Любомир Васильович, Новосядлий, Святослав Володимирович

Πηγή: Eastern-European Journal of Enterprise Technologies

Θεματικοί όροι: plasma chemical etching, deposition, boron phosphorus silicate glass, photoresist, reactor, УДК 621.794.4, плазмохимическое травление, осаждение, боро–фосфоро силикатное стекло, фоторезист, реактор, плазмохімічне травлення, осадження, боро–фосфоро силікатне скло, Indonesia

Περιγραφή αρχείου: application/pdf

Διαθεσιμότητα: https://www.neliti.com/publications/306315/implementation-plasma-chemical-etching-in-submicron-technology-wsi-structure

ВПРОВАДЖЕННЯ ПЛАЗМОХіМіЧНОГО ТРАВЛЕННЯ В СУБМіКРОННУ ТЕХНОЛОГіЮ СТРУКТУР іНТЕГРАЛЬНИХ СХЕМ

Συγγραφείς: НОВОСЯДЛИЙ С.П., МЕЛЬНИК Л.В., НОВОСЯДЛИЙ С.В.

Θεματικοί όροι: ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЕ ТРАВ- ЛЕНИЕ, ОСАЖДЕНИЕ, БОРО-ФОСФОРО СИЛИКАТНОЕ СТЕКЛО, ФОТОРЕЗИСТ, РЕАКТОР

Περιγραφή αρχείου: text/html

Διαθεσιμότητα: http://cyberleninka.ru/article/n/vprovadzhennya-plazmohimichnogo-travlennya-v-submikronnu-tehnologiyu-struktur-integralnih-shem
http://cyberleninka.ru/article_covers/15966648.png

Впровадження плазмохімічного травлення в субмікронну технології структур інтегральних схем

Πηγή: Eastern-European Journal of Enterprise Technologies; Том 3, № 5(75) (2015): Applied physics; 21-24
Восточно-Европейский журнал передовых технологий; Том 3, № 5(75) (2015): Прикладная физика; 21-24
Східно-Європейський журнал передових технологій; Том 3, № 5(75) (2015): Прикладна фізика; 21-24

Θεματικοί όροι: плазмохімічне травлення, осадження, боро–фосфоро силікатне скло, фоторезист, реактор, 0211 other engineering and technologies, 0202 electrical engineering, electronic engineering, information engineering, УДК 621.794.4, 02 engineering and technology, плазмохимическое травление, осаждение, боро–фосфоро силикатное стекло, plasma chemical etching, deposition, boron phosphorus silicate glass, photoresist, reactor

Περιγραφή αρχείου: application/pdf

Σύνδεσμος πρόσβασης: http://journals.uran.ua/eejet/article/view/42128