Implementation Plasma Chemical Etching in Submicron Technology Wsi Structure

Authors: Новосядлий, Степан Петрович, Мельник, Любомир Васильович, Новосядлий, Святослав Володимирович

Source: Eastern-European Journal of Enterprise Technologies

Subject Terms: plasma chemical etching, deposition, boron phosphorus silicate glass, photoresist, reactor, УДК 621.794.4, плазмохимическое травление, осаждение, боро–фосфоро силикатное стекло, фоторезист, реактор, плазмохімічне травлення, осадження, боро–фосфоро силікатне скло, Indonesia

File Description: application/pdf

Availability: https://www.neliti.com/publications/306315/implementation-plasma-chemical-etching-in-submicron-technology-wsi-structure

Радіовимірювальні оптичні перетворювачі для визначення часу плазмохімічного травлення ; Радиоизмерительные оптические преобразователи для определения времени плазмохимического травления ; Radiomeasuring Optical Transducers to Determine the Time of Plasma Chemical Etching

Authors: Селецька, Олена Олександрівна, Селецкая, Елена Александровна, Seletska, O. O.

Subject Terms: радіовимірювальні прилади, радіовимірювальний оптичний перетворювач, плазмохімічне травлення, функція перетворення, чутливість, радиоизмерительные приборы, радиоизмерительный оптический преобразователь, плазмохимическое травление, функция преобразования, чувствительность, radiomeasuring devices, radiomeasuring optical transducer, frequency, plasma chemical etching, function of conversion, sensitivity, частота

File Description: application/pdf

Relation: http://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/2938; 621.382.8

Availability: http://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/2938

Multichannel recording system of the emission spectrum of nonequilibrium plasma ; Многоканальная система регистрации спектра излучения неравновесной плазмы ; БАГАТОКАНАЛЬНА СИСТЕМА РЕЄСТРАЦІЇ СПЕКТРА ВИПРОМІНЮВАННЯ НЕРІВНОВАЖНОЇ ПЛАЗМИ

Authors: Білилівський, В. М., Кравченко, С. Ю., Кравченко, Ю. С., Осадчук, В. С.

Source: Visnyk of Vinnytsia Politechnical Institute; No 4 (2011); 169-172 ; Вестник Винницкого политехнического института; № 4 (2011); 169-172 ; Вісник Вінницького політехнічного інституту; № 4 (2011); 169-172 ; 1997-9274 ; 1997-9266

Subject Terms: plasma-chemical etching, optical radiation, photoconverters, the registration system, the electrical circuit, microcontroller, плазмохімічне травлення, оптичне випромінювання, фотоперетворювач, система реєстрації, схема електрична, мікроконтролер, плазмохимическое травление, оптическое излучение, фотопреобразователи, система регистрации, схема электрическая, микроконтроллер

File Description: application/pdf

Relation: https://visnyk.vntu.edu.ua/index.php/visnyk/article/view/1502/1502; https://visnyk.vntu.edu.ua/index.php/visnyk/article/view/1502

Availability: https://visnyk.vntu.edu.ua/index.php/visnyk/article/view/1502

The problem of increasing the efficiency of monitoring and control of plasma chemical process ; Пути повышения эффективности контроля и управления плазмохимическими процессами ; Шляхи підвищення ефективності контролю і управління плазмохімічними процесами

Authors: Кравченко, Ю. С., Осадчук, В. С., Кравченко, С. Ю.

Source: Visnyk of Vinnytsia Politechnical Institute; No 6 (2007); 119-125 ; Вестник Винницкого политехнического института; № 6 (2007); 119-125 ; Вісник Вінницького політехнічного інституту; № 6 (2007); 119-125 ; 1997-9274 ; 1997-9266

Subject Terms: plasma-chemical processes, microelectronic technology, control, sensor, plasma-chemical etching, controller, плазмохімічні процеси, мікроелектронна технологія, контроль, управління, сенсор-датчик, плазмохімічне травлення, контролер, плазмохимимческие процессы, микроэлектронная технология, контроль. управление. сенсор-датчик, плазмохимимческое травление, конроллер

File Description: application/pdf

Relation: https://visnyk.vntu.edu.ua/index.php/visnyk/article/view/545/544; https://visnyk.vntu.edu.ua/index.php/visnyk/article/view/545

Availability: https://visnyk.vntu.edu.ua/index.php/visnyk/article/view/545

Впровадження плазмохімічного травлення в субмікронну технології структур інтегральних схем

Source: Eastern-European Journal of Enterprise Technologies; Том 3, № 5(75) (2015): Applied physics; 21-24
Восточно-Европейский журнал передовых технологий; Том 3, № 5(75) (2015): Прикладная физика; 21-24
Східно-Європейський журнал передових технологій; Том 3, № 5(75) (2015): Прикладна фізика; 21-24

Subject Terms: плазмохімічне травлення, осадження, боро–фосфоро силікатне скло, фоторезист, реактор, 0211 other engineering and technologies, 0202 electrical engineering, electronic engineering, information engineering, УДК 621.794.4, 02 engineering and technology, плазмохимическое травление, осаждение, боро–фосфоро силикатное стекло, plasma chemical etching, deposition, boron phosphorus silicate glass, photoresist, reactor

File Description: application/pdf

Access URL: http://journals.uran.ua/eejet/article/view/42128

Методи контролю процесу травлення технологічних шарів надвеликих інтегральних схем

Contributors: Писаренко, Леонід Дмитрович, ELAKPI

Subject Terms: трансмісійний електронний мікроскоп, transmission electron microscope, плазмохімічне травлення, plasma-chemical etching, ІМС-інтегральна мікросхема, скануючий електронний мікроскоп, хімічно-механічне полірування, scanning electron microscope, chemical-mechanical polishing, IC-integrated circuit

File Description: application/pdf

Access URL: https://ela.kpi.ua/handle/123456789/65185

Спосіб визначення моменту закінчення процесу плазмохімічного травлення мікроструктур в хлорвуглецевій плазмі

Authors: Кравченко, Юрій Степанович, Коломієць, Віталій Ігорович, Кравченко, Юрий Степанович, Kravchenko, Yurii Stepanovych

Subject Terms: H01L 21/306, плазмохімічне травлення мікроструктур, хлорвуглецева плазма, електронна техніка, формування рисунку мікросхеми

File Description: application/pdf

Relation: 95442; http://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/243

Availability: http://ir.lib.vntu.edu.ua/handle/123456789/243