ВЛИЯНИЕ ПРОЦЕССОВ НА СТЕНКАХ КАПИЛЛЯРА НА ПАРАМЕТРЫ ПЛАЗМЫ ПОЛОЖИТЕЛЬНОГО СТОЛБА РАЗРЯДА НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ

Συγγραφείς: Мольков, Сергей

Θεματικοί όροι: РАЗРЯД НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ, ЭМИССИЯ ЭЛЕКТРОНОВ, КОЭФФИЦИЕНТ АККОМОДАЦИИ, СТЕПЕНЬ ШЕРОХОВАТОСТИ СТЕНКИ, ПАРАМЕТРЫ ПЛАЗМЫ

Περιγραφή αρχείου: text/html

Διαθεσιμότητα: http://cyberleninka.ru/article/n/vliyanie-protsessov-na-stenkah-kapillyara-na-parametry-plazmy-polozhitelnogo-stolba-razryada-nizkogo-davleniya
http://cyberleninka.ru/article_covers/14774993.png