-
1Academic Journal
Συγγραφείς: Saurova, Tetiana, Semenovskaya, Elena, Emelianov, Maksim
Πηγή: Вестник Киевского политехнического института. Серия приборостроение; № 60(2) (2020); 32-39
Bulletin of Kyiv Polytechnic Institute. Series Instrument Making; № 60(2) (2020); 32-39
Вісник Київського політехнічного інституту. Серія Приладобудування; № 60(2) (2020); 32-39Θεματικοί όροι: indium nitride, gallium nitride, scattering rate, electron drift mobility, relaxation equation method, нітрид індію, нітрид галію, розсіювання, дрейфова рухливість електронів, метод релаксаційних рівнянь, нитрид индия, нитрид галлия, рассеяние, дрейфовая подвижность электронов, метод релаксационных уравнений, 7. Clean energy
Περιγραφή αρχείου: application/pdf
-
2
-
3Academic Journal
Συγγραφείς: O. G. Zhevnyak, V. M. Borzdov, A. V. Borzdov, A. N. Petlitsky, О. Г. Жевняк, В. М. Борздов, А. В. Борздов, А. Н. Петлицкий
Πηγή: Devices and Methods of Measurements; Том 13, № 4 (2022); 276-280 ; Приборы и методы измерений; Том 13, № 4 (2022); 276-280 ; 2414-0473 ; 2220-9506 ; 10.21122/2220-9506-2022-13-4
Θεματικοί όροι: метод Монте-Карло, electron mobility, electron scattering, tunneling current, Monte Carlo method, подвижность электронов, рассеяние электронов, туннельный ток
Περιγραφή αρχείου: application/pdf
Relation: https://pimi.bntu.by/jour/article/view/790/639; De Salvo B. Silicon Non-Volatile Memories: paths of innovation. London: Wiley-ISTE, 2013, 234 p.; Keyes R.W. Physical limits of silicon transistors and circuits. Rep. Prog. Phys., 2005, vol. 68, pp. 2701– 2746. DOI:10.1088/0034-4885/68/12/R01; Gerardi C., Ancarani V., Portoghese R., Giuffrida S., Bileci M., Bimbo G., Brafa O., Mello D., Ammendola G., Tripiciano E., Puglisi R., Lombardo S.A. Nanocrystal Memory Cell Integration in a Stand-Alone 16-Mb NOR Flash Device. IEEE Trans. Electron Devices, 2007, vol. 54, no. 6, pp. 1376–1383. DOI:10.1109/TED.2007.895868; Govoreanu B., Wellekens D., Haspeslagh L., Brunco D.P., De Vos J., Aguado D. Ruiz, Blomme P., Van der Zanden K., Van Houdt J. Performance and Reliability of HfAlOx-based Interpolary Dielectrics for FloatingGate Flash Memory. Solid-State Electron., 2008, vol. 52, no. 4, pp. 557–563. DOI:10.1016/j.sse.2008.01.012; Zhevnyak O.G., Borzdov V.M., Borzdov A.V. Simulation of drain depth effect on parasitic currents in flash-memory cells. Eurasian Union of Scientists. Series: technical, physical and mathematical sciences, 2021, vol. 1, no. 12, pp. 58–61. DOI:10.31618/ESU.2413-9335.2021.1.93.1542; Boukhobza J., Olivier P. Flash Memory Integration. Performance and Energy Considerations. London: ISTE press Ltd. Publ., 2017, 250 p.; Borzdov V.M., Zhevnyak O.G., Komarov F.F., Galenchik V.O. Monte Carlo simulation of device structures of integrated electronics. Minsk: BSU, 2007, 175 p.; Chau Q. An efficient numerical approach to studying impact ionization in sub-micrometer devices. J. Comput. Electron., 2014, no. 13, pp. 329–337. DOI:10.1007/s10825-013-0536-x; Jacoboni C., Lugli P. The Monte Carlo method for semiconductor device simulation. Wien–New York: Springer, 2012, 359 p.; Moglestue C. Monte Carlo Simulation of Semiconductor Devices. Wien: Springer, 2013, 334 p.; https://pimi.bntu.by/jour/article/view/790
-
4Academic Journal
Συνεισφορές: ELAKPI
Θεματικοί όροι: electron drift mobility, relaxation equation method, метод релаксаційних рівнянь, indium nitride, нитрид индия, розсіювання, дрейфова рухливість електронів, нитрид галлия, scattering rate, рассеяние, дрейфовая подвижность электронов, метод релаксационных уравнений, gallium nitride, нітрид індію, нітрид галію
Περιγραφή αρχείου: application/pdf
Σύνδεσμος πρόσβασης: https://ela.kpi.ua/handle/123456789/40763
-
5Report
Συγγραφείς: Курбанова, Наталья
Συνεισφορές: Склярова, Елена Александровна
Θεματικοί όροι: моделирование, гетероструктурный транзистор, электрофизическая модель, структурные дефекты, высокая подвижность электронов, GaN HEMT, Silvaco TCAD, traps, current collapse, current-voltage characteristics, 03.06.01, 621.382.323-048.78:661.868.1'041
Περιγραφή αρχείου: application/pdf
Relation: Курбанова Н. Влияние структурных дефектов на сверхвысокочастотные характеристики мощного нитрид – галлиевого транзистора с высокой подвижностью электронов : научный доклад / Н. Курбанова; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Управление магистратуры, аспирантуры и докторантуры (УМАД), Отдел аспирантуры и докторантуры (ОАиД); науч. рук. Е. А. Склярова. — Томск, 2020.; http://earchive.tpu.ru/handle/11683/59736
Διαθεσιμότητα: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/59736
-
6Academic Journal
Συγγραφείς: Кревчик, Владимир, Калинин, Владимир, Калинин, Евгений
Θεματικοί όροι: КРАЕВАЯ ДИСЛОКАЦИЯ, ВРЕМЯ РЕЛАКСАЦИИ, ВНЕШНЕЕ МАГНИТНОЕ ПОЛЕ, КВАНТОВАЯ ПРОВОЛОКА, ПОДВИЖНОСТЬ ЭЛЕКТРОНОВ
Περιγραφή αρχείου: text/html
-
7Academic Journal
Συγγραφείς: Усанов, Дмитрий, Горбатов, Сергей, Кваско, Владимир
Θεματικοί όροι: БЛИЖНЕПОЛЕВАЯ СВЧ-МИКРОСКОПИЯ, ДИОД ГАННА, ПОДВИЖНОСТЬ ЭЛЕКТРОНОВ, КОЭФФИЦИЕНТ ДИФФУЗИИ, ДОМЕН СИЛЬНОГО ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ПОЛЯ
Περιγραφή αρχείου: text/html
-
8Academic Journal
Συγγραφείς: Tatiana Ignatyeva, A. Velikodnyy
Πηγή: East European Journal of Physics, Iss 991(1) (2012)
Θεματικοί όροι: подвижность электронов, критические энергии электронного спектра, край подвижности, локализация электронов, Physics, QC1-999
Περιγραφή αρχείου: electronic resource
Relation: http://periodicals.karazin.ua/eejp/article/view/13877; https://doaj.org/toc/2312-4334; https://doaj.org/toc/2312-4539
Σύνδεσμος πρόσβασης: https://doaj.org/article/b388529910124a2aa61897c2b10c6b70
-
9Academic Journal
Πηγή: Известия высших учебных заведений. Поволжский регион. Физико-математические науки.
Θεματικοί όροι: КРАЕВАЯ ДИСЛОКАЦИЯ, ВРЕМЯ РЕЛАКСАЦИИ, ВНЕШНЕЕ МАГНИТНОЕ ПОЛЕ, КВАНТОВАЯ ПРОВОЛОКА, ПОДВИЖНОСТЬ ЭЛЕКТРОНОВ
Περιγραφή αρχείου: text/html
-
10Academic Journal
Συγγραφείς: Ivanov, O.N., Yaprintsev, M.N., Lyubushkin, R.A., Soklakova, O.N.
Πηγή: Журнал нано-та електронної фізики, Vol 8, Iss 4, Pp 04036-1-04036-4 (2016)
Θεματικοί όροι: Electron mobility, Електричний опір, Электрическое сопротивление, Стрибкова провiднiсть, Прыжковая проводимость, Bi1, Physics, QC1-999, Рухливість електронiв, Hopping conductivit, Electrical resistivity, Hopping conductivity, Сплав Bi1.9Lu0.1Te3, 1Te3 alloy, Подвижность электронов, Сплав Bi1, 9Lu0
Περιγραφή αρχείου: application/pdf